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2019 Fiscal Year Annual Research Report

Control of valley and spin degrees of freedom in transition metal dichalcogenides by poralized field

Publicly Offered Research

Project AreaScience of hybrid quantum systems
Project/Area Number 18H04294
Research InstitutionRitsumeikan University

Principal Investigator

毛利 真一郎  立命館大学, 理工学部, 助教 (60516037)

Project Period (FY) 2018-04-01 – 2020-03-31
Keywords遷移金属ダイカルコゲナイド / バレー(スピン)分極 / グラフェン / ファンデルワールスエピタキシー / リモートエピタキシー / 自発分極
Outline of Annual Research Achievements

本研究の目標は、窒化物半導体と遷移金属ダイカルコゲナイド、グラフェンなどの原子層材料のヘテロ構造(ダブルヘテロ構造)を作製し、窒化物半導体の分極場(自発分極、ピエゾ分極)を利用して原子層材料のバレー・スピン分極、励起子物性などを制御することである。目的達成のため、期間内に「1.ファンデルワールスエピタキシーを利用したダブルヘテロ構造作製法の研究」「2.分極場による遷移金属ダイカルコゲナイド光物性の影響の評価」の2つの課題を進めることができ、以下に示すような成果が得られた。

1.メタルカバーファンデルワールスエピタキシーによるGaN成長
MBE法によるグラフェン上への窒化物半導体結晶成長において、従来は、グラフェンへのプラズマダメージの影響もあり、ナノサイズの結晶の集合体しか得られない状況であった。我々は、成長初期に金属原料(Ga)でグラフェン表面を被覆することで、グラフェンへのダメージを抑制し、薄膜試料が得られることを示した。特に、基板としてGaN上のグラフェンを利用した場合、疑似的なホモエピタキシーの状況を作る”リモートエピタキシー”効果により、結晶異形の混入の少ない薄膜が得られることがわかった。この手法では、ダブルヘテロ構造を直接作ることができる。
2.窒化物半導体極性面による遷移金属ダイカルコゲナイドのバレー分極、励起子物性の違い
分極場による遷移金属ダイカルコゲナイドの物性制御へ向けた第1歩として、極性面のことなる窒化物半導体上に遷移金属ダイカルコゲナイドを転写、成長し、その光物性を計測した。その結果、N極性面上のMoS2の低温(10K)でのバレー分極がGa極性面上より大きくなる傾向がみられることがわかった。N極性面上では荷電励起子発光が支配的となることからわかるように、自発分極がもたらす界面電子密度の上昇がバレー分極に影響していると考えられる。

Research Progress Status

令和元年度が最終年度であるため、記入しない。

Strategy for Future Research Activity

令和元年度が最終年度であるため、記入しない。

  • Research Products

    (20 results)

All 2020 2019 Other

All Int'l Joint Research (1 results) Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (18 results) (of which Int'l Joint Research: 4 results,  Invited: 2 results)

  • [Int'l Joint Research] ビリニュス大学(リトアニア)

    • Country Name
      LITHUANIA
    • Counterpart Institution
      ビリニュス大学
  • [Journal Article] Metal-Covered van der Waals Epitaxy of Gallium Nitride Films on Graphitic Substrates by ECR-MBE2019

    • Author(s)
      Ukyo. Ooe, F. Bin Abas, Sshinichiro. Mouri, Yasushi. Nanishi, Tsutomu. Araki,
    • Journal Title

      Jpn. J. Appl. Phys

      Volume: 58(SC) Pages: SC1053

    • DOI

      https://doi.org/10.7567/1347-4065/ab07ac

    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 極性に依存した窒化ガリウム基板上の単層遷移金属ダイカルコゲナイドの光学特性2020

    • Author(s)
      毛利 真一郎、小路 悠馬、篠北 啓介、松田 一成、荒木 努
    • Organizer
      応用物理学会67回学術講演会
  • [Presentation] THz分光解析によるグラフェンのバックグランド誘電率の推定2020

    • Author(s)
      藤井 高志、毛利 真一郎、荒木 努、上田 悠貴、成塚 重弥、岩本 敏志
    • Organizer
      応用物理学会67回学術講演会
  • [Presentation] DERI法によるInN成長膜厚の原子層レベルでの制御に向けた成長過程の検討2020

    • Author(s)
      後藤 直樹、荒木 努、毛利 真一郎、名西 穂之
    • Organizer
      応用物理学会67回学術講演会
  • [Presentation] 3層構造4H-SiC基板に形成したイオン注入層の非接触・非破壊電気特性測定2020

    • Author(s)
      佐藤 希一、藤井 高志、荒木 努、毛利 真一郎、石地 耕太朗、岩本 敏志、杉江 隆一
    • Organizer
      ,応用物理学会67回学術講演会
  • [Presentation] RF-MBE法によるScAlMgO4基板上へのGaNエピタキシャル成長2020

    • Author(s)
      栢本 聖也、藤井 高志、福田 承生、白石 裕児、毛利 真一郎、荒木 努
    • Organizer
      応用物理学会67回学術講演会
  • [Presentation] グラフェン緩衝層を用いたリモートホモエピタキシーによるInN成長2020

    • Author(s)
      松島 健太、荒川 真吾、大江 佑京、毛利 真一郎、名西 穂之、荒木 努
    • Organizer
      応用物理学会67回学術講演会
  • [Presentation] RF-MBE法を用いたN-polar AlN上へのN-polar InNの成長2020

    • Author(s)
      福田 安莉、毛利 真一郎、名西 穂之、荒木 努、正直 花奈子、三宅 秀人
    • Organizer
      応用物理学会67回学術講演会
  • [Presentation] 高品質AlN上RF-MBE成長InNの極微構造評価 (II)2020

    • Author(s)
      橘 秀紀、高林 佑介、中村 亮介、毛利 真一郎、名西 穂之、荒木 努、正直 花奈子、三宅 秀人
    • Organizer
      応用物理学会67回学術講演会
  • [Presentation] THzエリプソメトリーを用いたサファイア上グラフェンの電気特性評価2020

    • Author(s)
      鈴木 拓輝、佐藤 希一、藤井 高志、毛利 真一郎、荒木 努、岩本 敏志、佐藤 幸徳、上田 悠貴、成塚 重弥
    • Organizer
      応用物理学会67回学術講演会
  • [Presentation] 極性に依存したGaN表面上での遷移金属ダイカルコゲナイドの光学特性2020

    • Author(s)
      毛利 真一郎、小路 悠馬、篠北 啓介、松田 一成、荒木 努
    • Organizer
      フラーレンナノチューブグラフェン学会総合シンポジウム
  • [Presentation] Polarity Dependent Photoluminescence of GaN/MoS2 Hetero Structure2020

    • Author(s)
      Shinichiro Mouri, Yuuma Komichi, Tsutomu Araki
    • Organizer
      The 7th International Conference on Light-Emitting Devices and Their Industrial Applications (LEDIA'19)
  • [Presentation] Metal-Covered van der Waals Epitaxy of GaN on Graphitic Substrates by ECR-MBE2020

    • Author(s)
      Ukyo Ooe, Shinichiro Mouri, Faizulsalihin Abas, Yasushi Nanishi, Tsutomu Araki
    • Organizer
      The 7th International Conference on Light-Emitting Devices and Their Industrial Applications (LEDIA'19)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Photoluminescence Quenching of Monolayer Transition Metal Dichalcogenides on GaN Surface2020

    • Author(s)
      Shinichiro Mouri, Ukyo Ooe, Yuuma Komichi, Keisuke Shinokita, Kazunari Matsuda, Tsutomu Araki
    • Organizer
      International Symposium on Hybrid Quantum Systems (HQS 2019)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] ECR-MBE法を用いたMoS2上へのGaN薄膜成長2019

    • Author(s)
      大江佑京、毛利真一郎、名西穂之、荒木努
    • Organizer
      2019年秋季第80回応用物理学会学術講演会
  • [Presentation] Photoluminescence Properties of MoS2/GaN Hetero Structure2019

    • Author(s)
      Shinichiro Mouri, Yuuma Komichi, Keisuke Shinokita, Kazunari Matsuda, Tsutomu Araki
    • Organizer
      Recent Progress in Graphene & 2D Materials Research (RPGR 2019)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] Van der Waals Epitaxy of GaN on Graphene by ECR-MBE2019

    • Author(s)
      Ukyo Ooe, Shinichiro Mouri, Yasushi Nanishi, Tsutomu Araki
    • Organizer
      Recent Progress in Graphene & 2D Materials Research (RPGR 2019)
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] ファンデルワールスヘテロ構造の光物性2019

    • Author(s)
      毛利真一郎
    • Organizer
      表面真空学会2019学術講演会
    • Invited
  • [Presentation] 原子層ファンデルワールスヘテロ構造の作製とその光物性2019

    • Author(s)
      毛利真一郎
    • Organizer
      電気関係学会関西連合大会
    • Invited

URL: 

Published: 2021-01-27  

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