| Budget Amount *help |
¥34,710,000 (Direct Cost : ¥26,700,000、Indirect Cost : ¥8,010,000)
Fiscal Year 2016 : ¥7,020,000 (Direct Cost : ¥5,400,000、Indirect Cost : ¥1,620,000)
Fiscal Year 2015 : ¥6,890,000 (Direct Cost : ¥5,300,000、Indirect Cost : ¥1,590,000)
Fiscal Year 2014 : ¥7,150,000 (Direct Cost : ¥5,500,000、Indirect Cost : ¥1,650,000)
Fiscal Year 2013 : ¥6,890,000 (Direct Cost : ¥5,300,000、Indirect Cost : ¥1,590,000)
Fiscal Year 2012 : ¥6,760,000 (Direct Cost : ¥5,200,000、Indirect Cost : ¥1,560,000)
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| Outline of Annual Research Achievements |
１．ヒドリド（ジアルキルシリレン）鉄錯体の合成と触媒反応: 前年までにルテニウムのヒドリド（ジアルキルシリレン）錯体がベンゾフェノンのヒドロシリル化反応の触媒になることを見出した。そこで昨年度は，同族でルテニウムより安価で天然に豊富にある鉄を中心金属とする類縁錯体の合成を検討し，目的の錯体を単離することに成功した。この鉄錯体は重ベンゼンの炭素―重水素結合の活性化を伴い, アセトンのヒドロシリル化反応の触媒になることを見出した。
２．タングステン－ゲルマニウム三重結合錯体の新規合成法: 先にタングステン－ゲルマニウム三重結合化合物であるゲルミリン錯体を, ヒドリド（ヒドロゲルミレン）錯体からイソシアナートにより脱水素することで合成する方法を見出しているが, 今回, ヒドリド（ヒドロシリレン）錯体にNHCカルベンを反応させることで, プロトンおよびヒドリドとして水素を外しゲルミリン錯体を合成する新たな方法を開発した。この反応では, 中間体として新規なアニオン性ゲルミレン錯体が生成している。この中間体はFrustrated Lewis Pairと見なせるため, 今後の触媒反応開発の足がかりになると期待される。
３．タングステン―ケイ素三重結合錯体の合成: 上述したゲルミリン錯体の新規合成法を応用して, 嵩高いアルキル基を持つケイ素三重結合錯体（シリリン錯体）の単離に成功した。しかし, このアルキル置換シリリン錯体は非常に不安定で単離収率が低いため, 新しく嵩高いアリール基置換基を持つシリリン錯体の合成の研究も行った。その結果, シリリン錯体をイソカルボニル配位によって二量化した形で単離することに成功した。このシリリン錯体二量体は溶液中で単量体と解離平衡にあり，加熱により単量体に平衡が偏る。また，この錯体はジメチルアミノピリジンとの反応において単量体としてふるまうという知見を得た。
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