| Budget Amount *help |
¥3,000,000 (Direct Cost: ¥3,000,000)
Fiscal Year 2002: ¥1,000,000 (Direct Cost: ¥1,000,000)
Fiscal Year 2001: ¥1,000,000 (Direct Cost: ¥1,000,000)
Fiscal Year 2000: ¥1,000,000 (Direct Cost: ¥1,000,000)
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| Research Abstract |
1.水素リサイクリングの不均一性に対する回転ヘリカル磁場の効果
水素リサイクリングに不均一性が存在する場合に,回転ヘリカル磁場がどのような効果をもたらすかを,実験と粒子バランスモデルの両面から検討した。
回転ヘリカル磁場を印加すると,周辺部の磁場構造が変調受け,さらにその構造が回転する。その結果として,実効的なリサイクリング領域が増加して壁排気が増加する効果と,壁へのプラズマ粒子束の不均一性を緩和する効果があることがわかった。
2.回転ヘリカル磁場印加による水素リサイクリングの動的応答
回転ヘリカル磁場印加後の中性ガス圧の応答に関して,特徴的な時定数に着目して,粒子バランスモデルから検討した。中性ガス圧の挙動には,壁表面でのプラズマ粒子の反射や中性粒子の拡散よりもむしろ,中性粒子の壁表面での吸着の寄与が大きいことがわかった。また,その結果から,ヘリカル磁場印加による周辺プラズマ構造変化から生じる,リサイクリング領域に局在化の効果が現れる周波数を推測した。
3.回転ヘリカル磁場の水素リサイクリングへの効果の周波数依存性
印加する回転ヘリカル磁場の周波数を高くすると,中性ガス圧の増加が全体にわたって観測された。実効的なリサイクリング領域の増加と,壁へのプラズマ粒子束の不均一性の緩和の効果だけでは,RHF印加によるトロイダル全周での中性ガス圧の増加は説明できない。真空容器に流れる誘導電流による壁面の温度上昇が,数10s程度での中性ガス圧増加の原因の一つとして考えられるが,数sという比較的速い中性ガス圧の増加は,壁温の上昇だけでは説明できないと思われ,その原因を周辺部構造変化の時間遅れや,壁面の局所的な飽和の観点から調査している。
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