ゾル・ゲル法を利用したフッ素ド-プシリカ力の合成とキャラクタリゼ-ション
| Project/Area Number | 01604555 |
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Institution | Mie University |
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Principal Investigator |
新明 正弘 三重大学, 教育学部, 教授 (20000804)
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| Project Period (FY) |
1989
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| Project Status |
Completed(Fiscal Year 1989)
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| Budget Amount *help |
¥2,000,000 (Direct Cost : ¥2,000,000)
Fiscal Year 1989 : ¥2,000,000 (Direct Cost : ¥2,000,000)
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| Keywords | フッ素ド-プシリカ / 機能性シリカ / ゾル・ゲル法 / シリカゲル / 機能性材料 |
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| Research Abstract |
これまでに検討したSiF_4の加水分解法、フッ化ケイ酸溶液によるケイ酸エチルの加水分解法に続いて部分フッ素化したケイ酸エチルの加水分解ならびにアルコキシド基の1部をプロポキシ基およびブトキシ基で置換したケイ酸エチルを更に部分フッ素化して加水分解する方法でフッ素ド-プシリカゲルの作成を検討した。いずれの場合もフッ素濃度で1〜2%程度のシリカゲルを得ることが出来たがオルトケイ酸エチルとフッ化ケイ酸溶液を用いる方法と比較して、(1)フッ素ド-プ量の制御が容易でない、(2)シリカネットワ-クの発達過程の反応制御がケイ酸エチルと水の混合比で制御する方法ほど顕著に認められない、ことが分かった。これらの理由として部分フッ素したケイ酸アルコキシドは不均化反応を起し易いことが考えられる。そこで、これまでに開発したフッ化ケイ酸エチルの加水分解法ならびにSiF_4の加水分解法に戻ってさらなる検討を行った。特に加圧下でゲル化反応を行わせると大気圧下ではゲル化しない組成領域についてもゲル化可能となることが分り、それから得られた乾燥ゲルのキャラクタリゼ-ションを密度測定および気体吸着法で行い、疎水性をはじめ興味ある性質を示すゲルの得られることを明らかにした。また、Si_<F4>の加水分解法で得られるゲルはアルコキシド法で作成したゲルに較べて著しく見掛の密度が小さく“閉じた気孔"が多く含まれていること、および表面の気孔サイズの分布においても大きな差異のあることが分り、気体分離膜や触媒としての機能性に対する検討にも期待が持たれる。なお、これらの成果の一部は1989年環太平洋化学国際会議に発表された。
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Report
(1results)
Research Products
(4results)
