有機・無機ハイブリッド型モノマーの精密重合に関する研究
Project/Area Number |
02F00364
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Research Category |
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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Allocation Type | Single-year Grants |
Section | 外国 |
Research Field |
物質変換
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Research Institution | Osaka University |
Principal Investigator |
真島 和志 大阪大学, 基礎工学研究科, 教授
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Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
徐 ちん紅 大阪大学, 基礎工学研究科, 外国人特別研究員
徐 戻紅 大阪大学, 基礎工学研究科, 外国人特別研究員
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Project Period (FY) |
2002 – 2003
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Project Status |
Completed (Fiscal Year 2003)
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Budget Amount *help |
¥1,800,000 (Direct Cost: ¥1,800,000)
Fiscal Year 2003: ¥900,000 (Direct Cost: ¥900,000)
Fiscal Year 2002: ¥900,000 (Direct Cost: ¥900,000)
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Keywords | 表面 / ラジカル反応 / モノマー / 白金クラスター / ヒドロシリレーション / 光エネルギー変換 / ルイス酸 |
Research Abstract |
有機と無機のハイブリッド型の新しい材料を開発することを目的として研究をスタートし、種々の重合反応を試みました。試行錯誤の結果、新しいハイブリッド型材料開発と一環として、「単結晶Si表面や多結晶Si薄膜表面のアルキル化によりケイ素-炭素共有結合を持つSi表面修飾を行うことにより、太陽光水電解の高効率化を行う。」という具体的なテーマを設定し、「アルキル基には、種々の官能基を導入することが可能であり、アルキル基に導入される官能基と効率との関係を系統的にかつ徹底的に明らかにする。さらに、高効率化を目指してSi表面にケイ素や炭素以外の元素(特に遷移金属)で修飾するための新手法の開発を行う。」という目的として以下の成果を得ました。 1.Si表面のアルキル化について Si-O結合にくらべSi-C結合が化学的に強いことから、1993年以降、Si-C結合の形成による化学修飾が活発に研究されています。Xu博士は、これまでに報告されている幾つかの方法の中からラジカル開始剤として用いることにより、ラジカル反応によりアルキル基の導入を行うことを選択しました。これにより、直接、カルボキシル基やスルフォニル基を持つアルキル基をケイ素基盤状に導入する方法を確立しました。ATR(attenuated total reflectance)-FTIRやXPSにより同定を行い、現在太陽光水分解等に関する評価を行っています。 2.金属ナノ金属錯体による表面修飾について 金属錯体をもつモノマーとして4核白金クラスターで修飾したモノマーを用いて、ケイ素表面上での修飾を行ったところ、粒径の揃ったアイランドが生成することを見いだしました。現在光エネルギーへの応用や、他の金属で修飾したクラスターについても研究をすすめています。
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Report
(2 results)
Research Products
(4 results)