| Project/Area Number |
05225210
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
鈴木 寛治 東京工業大学, 工学部, 教授 (30106629)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
大嶋 正人 東京工業大学, 工学部, 助手 (20223810)
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| Project Period (FY) |
1993
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1993)
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| Budget Amount *help |
¥1,900,000 (Direct Cost: ¥1,900,000)
Fiscal Year 1993: ¥1,900,000 (Direct Cost: ¥1,900,000)
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| Keywords | ルテニウム / 三核錯体 / 錯体反応場 / ヒドリド錯体 / 三重架橋配位子 / ホスフィド錯体 / CH結合活性化 |
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| Research Abstract |
本年度は、高度に配位不飽和なルテニウム3核ペンタヒドリド錯体[(C_5Me_5)Ru]_3(μ_3-H)_2(μ-H)_3(1)の3核構造を補強するとともに3核錯体反応場の電子状態を精密制御するため、三重架橋配位子の導入について検討し以下に列挙する成果を得た。
1.[(C_5Me_5)Ru]_3(μ_3-H)_2(μ-H)_3(1)への三重架橋配位子の導入
錯体1とO_2,S_8,BH_3の反応により、O,S,BHが三重架橋した錯体の合成に成その構造をX線回折法で明らかにした。
2.Ru_3(PR_3)型錯体の合成
錯体1と三級ホスフィン・ホスファイトの反応により、[(C_5Me_5)Ru]_3(PR_3)(μ-H)_5(2)を合成しX線構造解析で、リン配位子が1つのルテニウム中心に末端配位していることを明らかにした。
3.カチオン性ホスフィド錯体{[(C_5Me_5)Ru]_3(μ-PR_2)(μ-H)_5}(BF_4)(3)の合成
錯体2とHBF_4の反応により、カチオン性の3核ホスフィド錯体3を合成・単離した。さらに3をLiBEt_3Hで還元し、中性のホスフィド錯体[(C_5Me_5)Ru]_3(μ-PR_2)(μ-H)_5(4)を合成しX線構造解析で分子構造を明らかにした。
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