| Project/Area Number |
05F05418
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| Research Category |
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 外国 |
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| Research Field |
Inorganic materials/Physical properties
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| Research Institution | Kyushu University |
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Principal Investigator |
桑原 誠 Kyushu University, 大学院・総合理工学研究院, 教授
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
WANG J 九州大学, 大学院・総合理工学研究院, 外国人特別研究員
WANG J. 九州大学, 大学院総合理工学研究院, 外国人特別研究員
WAN Jinging 九州大学, 大学院・総合理工学研究院, 外国人特別研究員
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| Project Period (FY) |
2005 – 2007
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2007)
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| Budget Amount *help |
¥2,400,000 (Direct Cost: ¥2,400,000)
Fiscal Year 2007: ¥600,000 (Direct Cost: ¥600,000)
Fiscal Year 2006: ¥1,200,000 (Direct Cost: ¥1,200,000)
Fiscal Year 2005: ¥600,000 (Direct Cost: ¥600,000)
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| Keywords | ナノ粒子 / ゾルーゲル法 / マイクロパターニング / 自己組織高分子 / 電気泳動電着 / 金属導電性高分子 / 強誘電体薄膜 / ナノ結晶蛍光体 / ゾル-ゲル法 |
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| Research Abstract |
本研究期間中に得られた主な成果を以下に記す。
1)Si基板上へのBaTiO_3ナノ結晶薄膜の作製
Si基板上にC_6H_5NHC_3H_6Si(OMe)_3-SAM薄膜を形成し、この基板をアニリンモノマー塩酸酸性溶液中に浸漬後、重合させ導電性ポリアニリン(PANI)薄膜を形成した。この高分子電極上に厚さ10μm以上のBaTiO_3ナノ結晶薄膜をEPD法により作製する技術を確立した。(J.Eur. Ceram. Soc. 28,101-108(2008)に発表
2)モールドを用いないITO透明電極上へのBaTiO_3ナノ結晶マイクロパターンの形成
ITO基板上に厚さ5μmのホトレジスト膜を作製し、リソグラフィ技術を用いて種々のパターン電極を形成した。このITOパターン電極とPt/Siなど、任意の導電基板を5μmのホトレジスト膜を挟んで対向させこのギャップ中にBaTiO_3ナノ粒子サスペンションを注入した後、EPD法により任意の導電電極上にITOパターン電極のパターンを転写したBaTiO_3ナノ粒子パターンを作製することに成功した。このモールドレスパターン技術はナノ結晶デバイスの新規作製法として期待される。(J. Electroceramicsに投稿中)
3)逆オパール中へのBaTiO_3ナノ結晶へのEPD充填
ポリスチレン球を充填して作製したオパールフォトニック結晶の間隙に、10nm-BaTiO_3粒子をEPD法により充填し、強誘電体逆オパールの作製に成功した。(J. Am. Ceram. Soc., 90, 4062-65(2007)に発表)
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