ケテンジチオアセタールモノオキシドの特性を利用した新たな合成反応の開発
| Project/Area Number |
08J04263
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| Research Category |
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 国内 |
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| Research Field |
Synthetic chemistry
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| Research Institution | Kyushu University (2009)
Kyoto University (2008) |
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Principal Investigator |
吉田 優 Kyushu University, 先導物質化学研究所, 特別研究員(PD)
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| Project Period (FY) |
2008 – 2009
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2009)
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| Budget Amount *help |
¥1,200,000 (Direct Cost: ¥1,200,000)
Fiscal Year 2009: ¥600,000 (Direct Cost: ¥600,000)
Fiscal Year 2008: ¥600,000 (Direct Cost: ¥600,000)
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| Keywords | ケテンジチオアセタールモノオキシド / ホスフィドアニオン / トシルアミド / 脱保護 / ケテンジチオアセタール / ケテン等価体 / プンメラー反応 |
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| Research Abstract |
本研究では、ケテンジチオアセタールモノオキシドの特性を利用した効率的な合成反応を開発し、既存の手法では合成が困難な医農薬や機能性材料を簡便合成する新手法の開発に努めた。特にフェノール骨格は、多くの医農薬や機能性有機化合物に含まれる重要な骨格である。しかしながら、多置換フェノールを簡便に合成する手法は未だに少ない。そこで、ケテンジチオアセタールモノオキシドとジインによる、形式的な[2+2+2]反応によってフェノールの新規合成法の開発を試みた。しかし、残念ながら、触媒系の検討を行ったが目的物を得ることはできなかった。一方、本研究の途上において、ホスフィドアニオンを用いるトシルアミドの新規脱保護法を見いだしたため、本反応の詳細な検討を行った。含窒素化合物は極めて基本的かつ重要な化合物群で、フェノールと同様に医農薬や機能性材料の基本骨格である。こういった化合物を合成する上で、アミンの特異な反応性を抑えるため、保護基の選択が極めて重要である。中でもトシルアミドは頑丈で取り扱い容易な優れた保護基として知られているが、常法では脱保護が難しい。これに対して、本法は、低温においても速やかにトシル基を除去できる極めて優れた手法である。さらに、用いる反応剤は市販されている化合物であるため、有用かつ簡便な手法と言える。また、窒素原子上での置換反応を経て進行しており、基礎化学的にも重要な知見である。本法を利用することで、含窒素化合物、特に通常合成困難なポリアミン類の合成を容易にすると考えられる。従って、本手法の開発は医薬品や機能性有機化合物の合成に大きく貢献する結果である。
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Report
(2 results)
Research Products
(10 results)
