| Project/Area Number |
12J06653
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| Research Category |
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 国内 |
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| Research Field |
Polymer/Textile materials
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| Research Institution | The University of Tokyo |
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Principal Investigator |
高橋 祥子 東京大学, 新領域創成科学研究科, 特別研究員(DC1)
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| Project Period (FY) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2014)
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| Budget Amount *help |
¥2,700,000 (Direct Cost: ¥2,700,000)
Fiscal Year 2014: ¥900,000 (Direct Cost: ¥900,000)
Fiscal Year 2013: ¥900,000 (Direct Cost: ¥900,000)
Fiscal Year 2012: ¥900,000 (Direct Cost: ¥900,000)
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| Keywords | ポリロタキサン / α-シクロデキストリン / ポリエチレングリコール / シクロデキストリン / 包接錯体 / 環動ゲル |
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| Outline of Annual Research Achievements |
α-シクロデキストリンとポリエチレングリコールによる包接錯体形成について研究を行った。α-シクロデキストリンとポリエチレングリコールによる包接錯体は、環動高分子材料の前駆体であるポリロタキサンを合成するために最も広く用いられている組み合わせである。包接錯体形成時に形成される環状分子に軸高分子が貫通した構造が環動高分子材料の特異な物性をもたらすため、環動高分子材料にとって包接錯体形成はカギとなる反応といえる。しかし、包接錯体形成に伴ってα-シクロデキストリン同士は凝集を起こし、反応系が溶液から固体まで大きく変化するため、包接錯体形成反応の詳細は未解明であった。そこで、本研究では高分子鎖の片末端を基板上に固定することでポリマーブラシとし、環状分子と高分子の包接反応を2次元系において追跡することにした。主に中性子反射率測定、斜入射広角X線散乱測定、表面プラズモン共鳴測定を用いて研究を行った。中性子反射率測定から包接錯体中で高分子鎖が屈曲した構造をとっており、斜入射広角X線散乱測定からは基板に対して包接錯体結晶が配向していることがわかった。また、表面プラズモン共鳴から、形成された包接錯体量の時間変化がわかった。このように、3次元系では系のゲル化や沈殿形成により知ることが出来なかった、配向性など包接錯体の構造と包接条件との関連や、包接錯体結晶が結晶核の形成と成長の様式を示すことを明らかにすることが出来た。
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| Research Progress Status |
26年度が最終年度であるため、記入しない。
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| Strategy for Future Research Activity |
26年度が最終年度であるため、記入しない。
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