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X線共鳴磁気小角散乱による誘起磁気アイランド構造の解明

Research Project

Project/Area Number 16656195
Research Category

Grant-in-Aid for Exploratory Research

Allocation TypeSingle-year Grants
Research Field Physical properties of metals
Research InstitutionKyoto University

Principal Investigator

奥田 浩司  京都大学, 国際融合創造センター, 助教授 (50214060)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 落合 庄治郎  京都大学, 国際融合創造センター, 教授 (30111925)
Project Period (FY) 2004 – 2006
Project Status Completed (Fiscal Year 2006)
Budget Amount *help
¥3,400,000 (Direct Cost: ¥3,400,000)
Fiscal Year 2006: ¥700,000 (Direct Cost: ¥700,000)
Fiscal Year 2005: ¥800,000 (Direct Cost: ¥800,000)
Fiscal Year 2004: ¥1,900,000 (Direct Cost: ¥1,900,000)
Keywords自己組織化ナノドット / GISAXS / 共鳴散乱 / FePt / GI-SAXS / ナノドット / Ge / Si / 放射光 / 埋もれた界面 / 反射率 / 異常散乱
Research Abstract

本年度はテンプレート材料としての強磁性ナノドット組織の発展過程の時間発展過程の評価とともに、それを定量化するための要素技術として必要な、寄生散乱強度低減のための全真空専用GIAXS測定システム構築とその評価、ならびに強度規格化手法としての反射率/GISAXS同時測定法の検討を進めた。
Fe基合金のナノドット形態変態過程の評価については、約0.4Tの磁場中でのその場加熱の可能なIn-situGISAXSチャンバを作成し、強磁性ナノドットの自己形成過程の実時間観察を試みた。テンプレートであるFe-Pt, Fe-Pd系合金においては規則不規則変態温度は熱力学的に組成に敏感であることが予想されるため、RBSにより厚さ2ナノメートル程度の初期膜厚の金属の組成分析を行なったのちIn-situ測定をおこなった。
ほぼ一様な薄膜からの磁性ナノドットの形成過程において、面内サイズの増加と面直方向のサイズの増加はほぼ同時に進行しており、その動力学としては初期核密度が保存される特性波長をもつ組織形成とはことなる成長様式であることが明らかとなった。詳細に見ると面直方向のサイズの増加はやや遅れるが、ほぼ同時期に飽和にいたり、その後は間接的な粗大化となるため変化は極端に遅くなった。一方、このような構造について定量データを取得するための全真空GISAXSを、専用チャンバーを作成してSPring8のBL13XUの空きハッチに搬入し、予備測定実験を試みた。試料としてはナノドット構造としてはほぼ完全に近い基板、キャップ層構造を前提とできるSi基板上のGeナノドットを標準分室として用いた。全真空化により、GISAXS特有の問題である寄生散乱除去が原理的に不可能である点については大幅な改善が見られることが明らかとなったものの、絶対値化の高精度化に必要な強度標準のとり方について、まだ試料電場強度の校正手段となる反射率との十分な精度での対応に課題があることが明らかとなった。

Report

(3 results)
  • 2006 Annual Research Report
  • 2005 Annual Research Report
  • 2004 Annual Research Report
  • Research Products

    (8 results)

All 2007 2006 2005 2004

All Journal Article (6 results) Book (1 results) Patent(Industrial Property Rights) (1 results)

  • [Journal Article] Grazing-incidence Small-angle Scattering as a Tool for Thin Film Microstructure and Interface Analysis2007

    • Author(s)
      H.Okuda, S.Ochiai, M.Ohtaka, T.Ichitubo, E.Matsubara, N.Usami
    • Journal Title

      Trans.Mater.Res.Soc.Japan 32

      Pages: 275-280

    • NAID

      130007922797

    • Related Report
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  • [Journal Article] In-situ GI-SAXS on the Self-organization Processes of Fe-based Thin Films'2006

    • Author(s)
      H.Okuda, M.Ohtaka, Y.Sakai, K.Kuno, S.Ochiai, T.Ichitsubo
    • Journal Title

      KEK proceedings Mar-06

      Pages: 117-120

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  • [Journal Article] 金属・半導体材料の小角散乱実験 : 異常小角散乱とGI-SAXS2006

    • Author(s)
      奥田浩司, 大高幹雄, 落合庄治郎
    • Journal Title

      放射光 19

      Pages: 419-428

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    • Author(s)
      S.Ochiai, T.Tomida, T.Nakamura, S.Iwamoto, H.Okuda, M.Tanaka, M.Hojo
    • Journal Title

      Mater. Sci. Forum 457-479

      Pages: 929-932

    • Related Report
      2005 Annual Research Report
  • [Journal Article] Application of Grazing-incidence Small-angle Scattering technique to Semiconducting Composite Materials2005

    • Author(s)
      T.Ogawa, H.Niwa, H.Okuda, S.Ochiai
    • Journal Title

      Mater.Sci.Forum 475-479

      Pages: 1097-1100

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  • [Journal Article] Microstructure analysis of Ge nanodots by grazing-incidence SAXS and diffuse scattering around a Bragg peak'2004

    • Author(s)
      H.Okuda, T.Ogawa, H.Niwa, S.Ochiai
    • Journal Title

      KEK Proceedings 2004-5

      Pages: 28-30

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  • [Book] ナノマテリアル(2)ナノ金属編6-3-3章(分担)2006

    • Author(s)
      奥田浩司, 落合庄治郎
    • Publisher
      フジテクノシステムズ
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  • [Patent(Industrial Property Rights)] X線反射率測定装置およびX線反射率測定方法2005

    • Inventor(s)
      奥田, 中嶋, 落合
    • Industrial Property Rights Holder
      京都大学・東北大学
    • Industrial Property Number
      2005-368305
    • Filing Date
      2005-12-21
    • Related Report
      2005 Annual Research Report

URL: 

Published: 2004-04-01   Modified: 2016-04-21  

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