パラメータ分離型アーク放電による窒化ホウ素膜のsp結合制御と機能設計の研究

• Project/Area Number: 20H02481
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• Allocation Type: Single-year Grants
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 26050:Material processing and microstructure control-related
• Research Institution: Kyoto University
• Principal Investigator: 江利口 浩二 京都大学, 工学研究科, 教授 (70419448)
• Project Period (FY): 2020-04-01 – 2023-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2020)
• Budget Amount: ¥18,070,000 (Direct Cost: ¥13,900,000、Indirect Cost: ¥4,170,000); Fiscal Year 2021: ¥4,810,000 (Direct Cost: ¥3,700,000、Indirect Cost: ¥1,110,000); Fiscal Year 2020: ¥9,230,000 (Direct Cost: ¥7,100,000、Indirect Cost: ¥2,130,000)
• Keywords: プラズマ / 窒化ホウ素 / イオンエネルギー / 誘電率

Outline of Research at the Start

窒化ホウ素膜(BN)は炭素に比べ化学安定で，多様な次元(2D,3D)構造を取りうる元素系であり，様々な極限環境や電子デバイスへの応用が期待されている重要な学術的かつ工学的対象である．本研究では，実用に耐えうるBN膜の2D,3D構造制御技術の確立を目指す．具体的には，これまで開発してきた反応性プラズマ(RePAC)をプラットフォームにし，安定したBN膜2D,3D構造制御技術の実現を目指す．イオンエネルギー・フラックス分離制御型アーク放電プラズマ源(2G-RePAC)を新規に設計し，局所的なsp2－sp3結合が最適化された高品質BN成膜技術の構築を目指す．