電子波の回折限界に迫る回折素子の作製

• Project/Area Number: 20H02647
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• Allocation Type: Single-year Grants
• Section: 一般
• Review Section: Basic Section 30020:Optical engineering and photon science-related
• Research Institution: Tohoku University
• Principal Investigator: 佐藤 俊一 東北大学, 多元物質科学研究所, 教授 (30162431)
• Project Period (FY): 2020-04-01 – 2023-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2020)
• Budget Amount: ¥17,810,000 (Direct Cost: ¥13,700,000、Indirect Cost: ¥4,110,000); Fiscal Year 2021: ¥5,200,000 (Direct Cost: ¥4,000,000、Indirect Cost: ¥1,200,000); Fiscal Year 2020: ¥8,190,000 (Direct Cost: ¥6,300,000、Indirect Cost: ¥1,890,000)
• Keywords: 電子レンズ

Outline of Research at the Start

電場や磁場を用いる電子レンズは、レンズ固有の収差が大きい上に、電磁場の不安定性に基づく収差も加わるため、開口角を小さくする必要がある。そのため、光学顕微鏡で使用されるような大きな開口角を持つ分解能の大きなレンズの製作が困難であった。本研究では、ワンショットレーザー干渉加工によって半導体薄膜に同心円パターンを形成し、光学的レンズと同等の性能を持つ薄膜電子レンズの作製プロセスの基盤を確立する。