電子欠損性ホウ素とπ電子系のインタープレイに基づく新物質変換反応と機能化学

Research Project

Project/Area Number	20H02722
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Allocation Type	Single-year Grants
Section	一般
Review Section	Basic Section 33010:Structural organic chemistry and physical organic chemistry-related
Research Institution	Tokyo Institute of Technology
Principal Investigator	庄子良晃東京工業大学, 科学技術創成研究院, 准教授 (40525573)
Project Period (FY)	2020-04-01 – 2023-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2020)
Budget Amount *help	¥17,290,000 (Direct Cost: ¥13,300,000、Indirect Cost: ¥3,990,000) Fiscal Year 2021: ¥5,590,000 (Direct Cost: ¥4,300,000、Indirect Cost: ¥1,290,000) Fiscal Year 2020: ¥6,110,000 (Direct Cost: ¥4,700,000、Indirect Cost: ¥1,410,000)
Keywords	ホウ素 / ルイス酸 / 炭素-炭素結合形成反応 / 炭素-炭素結合切断反応 / 骨格転位反応
Outline of Research at the Start	本研究では、電子欠損性ホウ素化合物を利用した新たな炭素-炭素結合形成／切断反応を開発し、他の手法では合成が困難なπ共役分子骨格を構築するための基盤技術を確立することを目指します。さらに挑戦的な課題として、常温でのアルカン活性化といった高難度物質変換反応を探求します。本研究を通じて、有機ホウ素を用いた反応化学の新たな潮流を拓くとともに、既存技術の延長線上にはない分子技術を開拓することを目指します。