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Production of high-entropy alloy thin films by nano-encapsulated electrodeposition

Research Project

Project/Area Number 22K18887
Research Category

Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)

Allocation TypeMulti-year Fund
Review Section Medium-sized Section 26:Materials engineering and related fields
Research InstitutionKyoto University

Principal Investigator

深見 一弘  京都大学, 工学研究科, 准教授 (60452322)

Project Period (FY) 2022-06-30 – 2025-03-31
Project Status Granted (Fiscal Year 2023)
Budget Amount *help
¥6,500,000 (Direct Cost: ¥5,000,000、Indirect Cost: ¥1,500,000)
Fiscal Year 2024: ¥2,600,000 (Direct Cost: ¥2,000,000、Indirect Cost: ¥600,000)
Fiscal Year 2023: ¥2,600,000 (Direct Cost: ¥2,000,000、Indirect Cost: ¥600,000)
Fiscal Year 2022: ¥1,300,000 (Direct Cost: ¥1,000,000、Indirect Cost: ¥300,000)
Keywordsハイエントロピー合金 / ミディアムエントロピー合金 / 電析 / エマルション / イオン液体 / 合金 / ハイエントロピー / エマルジョン
Outline of Research at the Start

ハイエントロピー合金(HEA)はほぼ等原子比率の5種類以上の元素で構成される単相固溶体であり、従来の合金では実現できない高い強度と靭性を両立できる。HEAは優れた耐摩耗性と耐食性といった複数の機能を同時に発現させることが可能であり、表面コーティングへの応用も強く期待されている。本研究では有機溶媒中に水滴が分散した「water-in-oil型エマルジョン」を電解液に用いることで、微小水滴中に等濃度の金属イオンを溶存させ、水滴が電極に接触した際に即座に還元すること(ナノカプセル電析)によりHEAの製膜に挑戦する。

Outline of Annual Research Achievements

エマルションを電解液に用いた「ナノカプセル電析」によるハイエントロピー合金(HEA)電析技術を確立する。従来の水溶液や有機溶媒のような単相の電解液を用いた電析の場合、HEAやミディアムエントロピー合金(MEA)を製膜することは理論上極めて難しい。本研究では、相分離したエマルションに着目し、これを電解液としてHEAやMEAを電析するナノカプセル電析技術の確立を目指している。本年度は、初年度に電析に成功したCr-Co-Ni MEAについて、より詳細な検討を進めた。ナノインデンターによる機械特性評価の結果、電析Cr-Co-Ni MEAは高い耐摩耗性を有し、400℃程度でアニールを行うと従来の硬質クロムめっきを遥かに超える耐摩耗性をもつことが明らかとなった。また、腐食挙動の把握のために電気化学測定を実施したところ、幅広い電位領域で不動態化がみられ、この挙動も従来の硬質クロムめっきを超えることが明らかとなった。一方、電析に成功したメカニズムについても検討を進めた。Cr-Co-Ni MEA電析ではエマルションではなくイオン液体(CnmimCl, n=2, 4, 6)と水溶液の混合液体を電解液に用いている。この液体について分子動力学シミュレーションにより液体構造を推定した。CnmimClのn=2のときは水溶液とイオン液体が良く混ざり、相分離構造は示さない。一方で、C=4や6のイオン液体ではイオン液体の非極性部が集まった相分離構造を示すことが明らかとなった。実際にCr-Co-Ni MEAの電析はC=4や6のイオン液体を用いた場合にのみ成功したことから、メソスケールでの液体の相分離構造がエマルションと同様のはたらきをもち、MEA電析を可能にしたと考えるに至った。

Current Status of Research Progress
Current Status of Research Progress

1: Research has progressed more than it was originally planned.

Reason

当初予定していた検討内容は全て終えた。Cr-Co-Ni MEA電析は今回の研究では達成が難しいと考えていたが、想定を超えてこれを実現し、PCTによる国際出願にまで至っている。また、関連する論文は既に投稿を済ませ、改定の段階にある。このような状況のもと、最終年度は当初計画にない新たなHEAやMEA電析技術の開拓を試みる予定である。これらの理由から当初計画以上に進展していると考えている。

Strategy for Future Research Activity

まずは現在投稿中のCr-Co-Ni MEA電析に関する論文の受理を目指す。一方、電析技術が得意とするナノ構造形成に取り組み、これまでに報告されていないナノロッドなどのHEAやMEAナノ材料の創製を目指す。

Report

(2 results)
  • 2023 Research-status Report
  • 2022 Research-status Report
  • Research Products

    (13 results)

All 2024 2023 2022 Other

All Journal Article (2 results) (of which Peer Reviewed: 2 results,  Open Access: 1 results) Presentation (8 results) (of which Int'l Joint Research: 2 results,  Invited: 3 results) Remarks (1 results) Patent(Industrial Property Rights) (2 results) (of which Overseas: 1 results)

  • [Journal Article] Electrodeposition of a CoNiCu Medium-Entropy Alloy: Promotion of the Electrodeposition Rate and Composite Deposition with Carbon Nanotubes2023

    • Author(s)
      村上勇樹,邑瀬邦明,深見一弘
    • Journal Title

      Journal of The Surface Finishing Society of Japan

      Volume: 74 Issue: 10 Pages: 529-533

    • DOI

      10.4139/sfj.74.529

    • ISSN
      0915-1869, 1884-3409
    • Year and Date
      2023-10-01
    • Related Report
      2023 Research-status Report
    • Peer Reviewed / Open Access
  • [Journal Article] Smooth Thin Film of a CoNiCu Medium-Entropy Alloy Consisting of Single Nanometer-Sized Grains Formed by Electrodeposition in a Water-in-Oil Emulsion2023

    • Author(s)
      Murakami Yuki、Murase Kuniaki、Fukami Kazuhiro
    • Journal Title

      The Journal of Physical Chemistry C

      Volume: 127 Issue: 9 Pages: 4696-4703

    • DOI

      10.1021/acs.jpcc.2c08033

    • Related Report
      2022 Research-status Report
    • Peer Reviewed
  • [Presentation] CnmimCl-H2O浴からのCrCoNiミディアムエントロピー合金電析2024

    • Author(s)
      村上勇樹,石井浩介,西 直哉,邑瀬邦明,深見一弘
    • Organizer
      電気化学会第91回大会
    • Related Report
      2023 Research-status Report
  • [Presentation] Electrodeposition of Medium-Entropy Alloy from C4mimCl-H2O Bath2023

    • Author(s)
      Yuki Murakami, Kuniaki Murase, Kazuhiro Fukami
    • Organizer
      International Conference on Surface Engineering (ICSE2023)
    • Related Report
      2023 Research-status Report
    • Int'l Joint Research
  • [Presentation] 高硬度・高耐食性を有するCrCoNiミディアムエントロピー合金の電析2023

    • Author(s)
      村上勇樹,石井浩介,西 直哉,邑瀬邦明,深見一弘
    • Organizer
      2023年度第3回関西電気化学研究会
    • Related Report
      2023 Research-status Report
  • [Presentation] 材料表面加工のための電気化学:電位の考え方と使い方2023

    • Author(s)
      深見一弘
    • Organizer
      応用物理学会 界面ナノ電子化学研究会 チュートリアル
    • Related Report
      2023 Research-status Report
    • Invited
  • [Presentation] C4mimCl-H2O浴からのCrCoNiミディアムエントロピー合金電析2023

    • Author(s)
      村上勇樹,邑瀬邦明,深見一弘
    • Organizer
      表面技術協会第147回講演大会
    • Related Report
      2022 Research-status Report
  • [Presentation] エマルジョンを用いたCoNiCuミディアムエントロピー合金電析:添加剤による平滑化2022

    • Author(s)
      村上勇樹,北田敦,邑瀬邦明,深見一弘
    • Organizer
      表面技術協会第146回講演大会
    • Related Report
      2022 Research-status Report
  • [Presentation] Surface Processing by Electrochemical Reactions Toward Energy Applications2022

    • Author(s)
      Kazuhiro Fukami
    • Organizer
      e-conversion 2022
    • Related Report
      2022 Research-status Report
    • Int'l Joint Research / Invited
  • [Presentation] 陽極酸化と電析を駆使した材料表面の微細加工2022

    • Author(s)
      深見一弘
    • Organizer
      令和4年度 第1回表面物性研究会
    • Related Report
      2022 Research-status Report
    • Invited
  • [Remarks] 深見一弘 研究業績

    • URL

      http://www.echem.mtl.kyoto-u.ac.jp/fukami-list1r.html

    • Related Report
      2022 Research-status Report
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 多元系合金めっき膜の生成方法2024

    • Inventor(s)
      深見一弘,村上勇樹,邑瀬邦明
    • Industrial Property Rights Holder
      京都大学
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Filing Date
      2024
    • Related Report
      2023 Research-status Report
    • Overseas
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 多元系合金めっき膜の生成方法2023

    • Inventor(s)
      深見一弘,村上勇樹,邑瀬邦明
    • Industrial Property Rights Holder
      京都大学
    • Industrial Property Rights Type
      特許
    • Industrial Property Number
      2023-025550
    • Filing Date
      2023
    • Related Report
      2022 Research-status Report

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Published: 2022-07-05   Modified: 2024-12-25  

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