Development of room-temperature fast hydride-ion conductors using epitaxial thin films

• Project/Area Number: 22K20559
• Research Category: Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
• Allocation Type: Multi-year Fund
• Review Section: 0502:Inorganic/coordination chemistry, analytical chemistry, inorganic materials chemistry, energy-related chemistry, and related fields
• Research Institution: Kyoto University
• Principal Investigator: 笹原 悠輝 京都大学, 工学研究科, 特定研究員 (30965611)
• Project Period (FY): 2022-08-31 – 2024-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2022)
• Budget Amount: ¥2,860,000 (Direct Cost: ¥2,200,000、Indirect Cost: ¥660,000); Fiscal Year 2023: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000); Fiscal Year 2022: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000)
• Keywords: ヒドリド伝導体 / エピタキシャル薄膜 / 水素化ハロゲン化物 / パルスレーザー堆積法 / 超イオン伝導体

Outline of Research at the Start

最近、水素のアニオンであるヒドリド (H－)が注目を集めている。H－は、電池系のデバイスのみならず、有機反応や触媒にも応用可能であるため、従来のイオニクスデバイスでは成し得なかった特異なデバイスの実現を期待できる。しかし、現状では室温における伝導率の低さが課題となり、H－の強みを生かし切れていない。そこで本研究では、水素系物質の薄膜合成に特化した装置によるH－伝導体の高品質なエピタキシャル薄膜合成により、室温における高速H－伝導を生み出す。