• Search Research Projects
  • Search Researchers
  • How to Use
  1. Back to previous page

High-quality synthesis for crystalline oxide semiconductors by atomic layer process toward integrated devices

Research Project

Project/Area Number 23K19123
Research Category

Grant-in-Aid for Research Activity Start-up

Allocation TypeMulti-year Fund
Review Section 0302:Electrical and electronic engineering and related fields
Research InstitutionNara Institute of Science and Technology

Principal Investigator

Takahashi Takanori  奈良先端科学技術大学院大学, 先端科学技術研究科, 助教 (20983951)

Project Period (FY) 2023-08-31 – 2025-03-31
Project Status Completed (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help
¥2,860,000 (Direct Cost: ¥2,200,000、Indirect Cost: ¥660,000)
Fiscal Year 2024: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000)
Fiscal Year 2023: ¥1,430,000 (Direct Cost: ¥1,100,000、Indirect Cost: ¥330,000)
Keywords酸化物半導体 / 電界効果トランジスタ / 薄膜トランジスタ / 信頼性 / 原子層堆積 / 酸化インジウム / 原子層堆積法 / 薄膜成長 / 集積デバイス
Outline of Research at the Start

現在, 半導体・電子デバイスで消費されるエネルギーの削減は全世界の課題である. 従来の半導体デバイスはシリコンを中心に研究が行われているが, 更なる低消費電力化には超極小OFFリーク電流を達成可能な酸化物半導体の導入が必須であると推察される. InGaZnO等の酸化物半導体はディスプレイ分野では実用化されているが, 大規模集積回路やメモリ等の集積デバイスに適用するためには、高電子移動度と信頼性を高い次元で両立することが要求される. 本研究では, 前述の要求を満たすために結晶性酸化物半導体の成膜手法として原子層プロセスを導入し, 薄膜成長機構と物性, 素子特性間における相関関係の明確化を図る.

Outline of Final Research Achievements

This study established atomic layer deposited crystalline oxide semiconductor channels that achieve both high mobility and high reliability. Channel materials and device structures were optimized through evaluation of mobility and contact resistance. The crystalline Ga-doped In2O3 channels exhibited intrinsic field-effect mobility of over 50 cm2/Vs, along with a small threshold voltage shift below 100 mV under a positive gate bias stress. These results demonstrate the superiority of crystalline oxide semiconductor materials over conventional amorphous oxide semiconductors.

Academic Significance and Societal Importance of the Research Achievements

本研究では原子層堆積法で成膜した酸化物半導体チャネルの高移動度化と高信頼性化の両立に取り組み、結晶構造を有するIn2O3系酸化物半導体が有望であることを実験的に示した。大規模集積回路やメモリに搭載された半導体・電子デバイスの低消費電力化に向けて超極小OFFリーク電流を達成可能な酸化物半導体の導入が有望視されており、本研究で得られた高移動度化および信頼性劣化現象に関する知見は酸化物半導体の集積デバイス応用を加速させる可能性がある。

Report

(2 results)
  • 2024 Final Research Report ( PDF )
  • 2023 Research-status Report
  • Research Products

    (4 results)

All 2024 2023

All Presentation (4 results)

  • [Presentation] 原子層堆積法で成膜した非晶質/多結晶In-Ga-O トランジスタの信頼性2024

    • Author(s)
      髙橋 崇典, 上沼 睦典, 小林 正治, 浦岡 行治
    • Organizer
      29 回 電子デバイス界面テクノロジー研究会 ―材料・プロセス・デバイス特性の物理―
    • Related Report
      2023 Research-status Report
  • [Presentation] 高移動度酸化物薄膜トランジスタにおける真性電界効果移動度の評価2024

    • Author(s)
      高橋 崇典, 浦岡 行治
    • Organizer
      第71回応用物理学会春季学術講演会
    • Related Report
      2023 Research-status Report
  • [Presentation] 原子層堆積法を用いた結晶性In-Ga-Oの成膜と電気的特性2023

    • Author(s)
      星川 輝, 高橋 崇典, 上沼 睦典, 河西 秀典, 浦岡 行治
    • Organizer
      第84回応用物理学会秋季学術講演会
    • Related Report
      2023 Research-status Report
  • [Presentation] In2O3薄膜トランジスタのチャネル膜厚がキャリア伝導に及ぼす影響2023

    • Author(s)
      川戸 勇人, 髙橋 崇典, 上沼 睦典, 浦岡 行治
    • Organizer
      第84回応用物理学会秋季学術講演会
    • Related Report
      2023 Research-status Report

URL: 

Published: 2023-09-11   Modified: 2026-01-16  

Information User Guide FAQ News Terms of Use Attribution of KAKENHI

Powered by NII kakenhi