シンタリング抑制と触媒機能発現の両立に向けたSiOx層と金属触媒の位置選択的形成

Research Project

Project/Area Number	24K08165
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Allocation Type	Multi-year Fund
Section	一般
Review Section	Basic Section 27030:Catalyst and resource chemical process-related
Research Institution	Kurume National College of Technology
Principal Investigator	清長友和久留米工業高等専門学校, 材料システム工学科, 准教授 (90727421)
Project Period (FY)	2024-04-01 – 2027-03-31
Project Status	Granted (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help	¥4,550,000 (Direct Cost: ¥3,500,000、Indirect Cost: ¥1,050,000) Fiscal Year 2026: ¥910,000 (Direct Cost: ¥700,000、Indirect Cost: ¥210,000) Fiscal Year 2025: ¥1,040,000 (Direct Cost: ¥800,000、Indirect Cost: ¥240,000) Fiscal Year 2024: ¥2,600,000 (Direct Cost: ¥2,000,000、Indirect Cost: ¥600,000)
Keywords	触媒機能 / シンタリング抑制 / 金属ナノ粒子 / 位置選択的形成
Outline of Research at the Start	金属触媒はその触媒活性向上のため、ナノ粒子化による大表面積化が行われている。しかし、反応温度の増加にともないシンタリング（金属ナノ粒子触媒の凝集）が起こりやすくなり、触媒活性が低下してしまうため、大きな問題となっている。本研究の目的は金属ナノ粒子触媒のシンタリングを抑制するために担体（酸化チタン）上にSiOx層を位置選択的に形成させることに加えて、形成させたこのSiOx層と接触が極力起こらないように金属ナノ粒子触媒を担体上に位置選択的に析出させる方法を確立することであり、これにより金属ナノ粒子触媒のシンタリング抑制と金属ナノ粒子本来の触媒機能の発現の両立を目指す。