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精密有機合成反応の開発に向けたホウ素ラジカル化学の新展開

Research Project

Project/Area Number 24K17678
Research Category

Grant-in-Aid for Early-Career Scientists

Allocation TypeMulti-year Fund
Review Section Basic Section 33020:Synthetic organic chemistry-related
Research InstitutionNagoya Institute of Technology

Principal Investigator

安川 直樹  名古屋工業大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 (90981184)

Project Period (FY) 2024-04-01 – 2026-03-31
Project Status Granted (Fiscal Year 2024)
Budget Amount *help
¥4,810,000 (Direct Cost: ¥3,700,000、Indirect Cost: ¥1,110,000)
Fiscal Year 2025: ¥2,340,000 (Direct Cost: ¥1,800,000、Indirect Cost: ¥540,000)
Fiscal Year 2024: ¥2,470,000 (Direct Cost: ¥1,900,000、Indirect Cost: ¥570,000)
Keywordsホウ素ラジカル / 光レドックス触媒 / カップリング
Outline of Research at the Start

ホウ素官能基は、医薬品や機能性材料の合成素子や合成前駆体として利用価値が高い。そこで、本研究では、穏和な条件下で発生させたホウ素ラジカル種を用いた、「導入法」や「新規活用法」の開発に着手する。具体的には、①芳香族化合物のホウ素化反応 ②原子・官能基移動を用いた構造編集 を柱とする分子変換反応の開発を目指す。また、ホウ素原子が元来保有する特性を活かして、③ホウ素ラジカルのβ開裂に基づくラジカル反応へと展開する。

URL: 

Published: 2024-04-05   Modified: 2024-06-24  

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