14族ナノシートの合成

• 研究領域: 14族ナノシート科学の創成
• 研究課題/領域番号: 24H00850
• 研究種目: 学術変革領域研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 審査区分: 学術変革領域研究区分(Ⅱ)
• 研究機関: 名古屋大学
• 研究代表者: 黒澤 昌志 名古屋大学, 工学研究科, 准教授 (40715439)
• 研究分担者: 大田 晃生 福岡大学, 理学部, 准教授 (10553620)
• 研究期間 (年度): 2024-04-01 – 2027-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 54,210千円 (直接経費: 41,700千円、間接経費: 12,510千円); 2025年度: 8,320千円 (直接経費: 6,400千円、間接経費: 1,920千円); 2024年度: 25,090千円 (直接経費: 19,300千円、間接経費: 5,790千円)
• キーワード: 14族ナノシート / 薄膜 / 結晶成長 / 絶縁膜上 / 大気安定

研究開始時の研究の概要

14族ナノシート(グラフェンのCをSi、Ge、Snに置換した二次元物質:シリセン、ゲルマネン、スタネン)は、超高真空中で導電性基板上でのみ、その合成に成功しており、理論的に予測されている卓越した物性を応用するには至っていない。この課題解決に向けて、最近我々が開発した大気安定14族ナノシート(絶縁膜上、絶縁膜サンドイッチ構造)をB01物性班やC01応用班に安定提供することをA01合成班の第一の目的とする。加えて、表面修飾や混晶化(Si1-xGex、Ge1-xSnx)により電子状態を変調した材料創製も行い、14族ナノシートを基軸とした材料設計指針の体系化に必要な試料合成を進める。