マルチ層配列のための電子構造の設計・合成

• 研究領域: マルチ層配列：分子層内外の電子-格子自由度制御に基づく超薄膜機能の新展開
• 研究課題/領域番号: 25H01403
• 研究種目: 学術変革領域研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 審査区分: 学術変革領域研究区分(Ⅱ)
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 藤野 智子 東京大学, 物性研究所, 助教 (70463768)
• 研究分担者: 原口 祐哉 東京農工大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 (70808667) ; 吉見 一慶 東京大学, 物性研究所, 特任研究員 (10586910)
• 研究期間 (年度): 2025-04-01 – 2028-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2025年度)
• 配分額: 52,520千円 (直接経費: 40,400千円、間接経費: 12,120千円); 2025年度: 22,620千円 (直接経費: 17,400千円、間接経費: 5,220千円)
• キーワード: ドナー-アクセプター錯体 / 有機-無機ハイブリッド錯体 / 交互積層型錯体 / 第一原理計算 / 理論的予測

研究開始時の研究の概要

有機伝導体超薄膜の構築を目指し、気液界面制御による液相法を用いて分子層を積層し、電荷移動錯体を形成する。第一原理計算をもとに軌道混成を考慮した分子設計により層内・層間電子的結合を誘起し、配列構造に由来する特異なバンド構造を構築、そこから多彩な伝導物性の創出を図る。さらに、外場応答性の活用や周期／準周期構造の導入によってバンド構造を自在に変調し、従来のバルク結晶や無機薄膜を超える新たな電子創発物性の実現を目指す。