研究課題/領域番号 |
01470109
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研究種目 |
一般研究(B)
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配分区分 | 補助金 |
研究分野 |
高分子合成
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研究機関 | 東京工業大学 |
研究代表者 |
今井 淑夫 東京工業大学, 工学部, 教授 (50016557)
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研究期間 (年度) |
1989 – 1990
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研究課題ステータス |
完了 (1990年度)
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配分額 *注記 |
5,500千円 (直接経費: 5,500千円)
1990年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
1989年度: 4,500千円 (直接経費: 4,500千円)
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キーワード | パラジウム触媒 / ニッケル触媒 / ブロック共重合体 / 芳香族ポリアミド / ポリジメチルシロキサン / カルボニル化反応 / ポリフェニレンビニレン / 一酸化炭素 / ポリアミド / 重縮合反応 |
研究概要 |
芳香族ジハライドと、芳香族ジアミン、およびアミン末端ポリジメチルシロキサンを、パラジウム触媒による一酸化炭素の挿入反応で反応させることにより、芳香族ポリアミドーポリジメチルシロキサンブロック共重合体の合成を試みた。そこで、高分子量のブロック共重合体を得るために次のような反応条件を詳細に検討した。 1)重合溶媒の種類。 2)パラジウム触媒の種類。 3)添加するアミンの種類。 4)モノマ-濃度。 5)一酸化炭素の圧力。 その結果、得られたブロック共重合体は、フィルム形成能を有する高重合体であることが明かとなった。 一方、ブロック共重合体の合成とは別に、パラジウムよりも安価な金属であるニッケルを使用して、縮合系高分子の合成を試みた。その第一の課題は、ニッケル触媒を使用するカルボニル化反応であり、パラジウムを用いたときほどではないが、高分子量の芳香族ポリアミドを合成する技術はほぼ確立できた。さらに、ニッケル触媒と亜鉛の存在下、ジェミナルなジハライドをカップリングさせることによる、フェニル化ポリフェニレンビニレンの合成を計画し、モノマ-であるジクロロジフェニメタンを合成して、重合を試みたが十分高分子量のポリマ-を得るには至らなかった。しかし、全く新しい重合反応系で、オリゴマ-ではあるが高分子が得られた意義は大きいと考えられる。
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