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インジウムリン基板上ガリウム砒素系光スイッチの研究

研究課題

研究課題/領域番号 01550250
研究種目

一般研究(C)

配分区分補助金
研究分野 電子材料工学
研究機関徳島大学

研究代表者

酒井 士郎  徳島大学, 工学部, 助教授 (20135411)

研究分担者 新谷 義廣  徳島大学, 工業短期大学部, 教授 (40035613)
研究期間 (年度) 1989 – 1990
研究課題ステータス 完了 (1990年度)
配分額 *注記
2,600千円 (直接経費: 2,600千円)
1990年度: 600千円 (直接経費: 600千円)
1989年度: 2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
キーワード光スイッチ / 格子不整合 / インジウムリン上ガリウム砒素 / Si上GaAs / ヘテロ構造 / 光導波路 / ヘテロエピタキシ- / 熱歪 / 格子不整 / 光方向性結合器 / ガリウム砒素 / インジウムリン
研究概要

光コンピュ-タや光通信の分野で高速で動作する光スイッチに対する需要はますます高まっている。LiNbO3 を用いた光スイッチでは既にオン/オフ比20dB以上のデバイスが開発されているが光源や光検出器との集績化ができないという欠点を持つ。一方光通信に重要な波長1.3ー1.6μm帯用の半導体材料InGaAsP/InP系は格子整合をとりつつ屈折率の正確な制御が因難である。その点A1GaAs/GaAs系ではA1の相成に関係なく格子定数が一定であるため屈折率の制御が容易でかつ波長1.3ー 1.6μm帯の光に対して透明である。しかしながら光源となるInGaAsP/InP系との組み合わせを考えると適当な基坂がない。本研究は格子整合しない基板上にAlGaAs/GaAsを成長しその光デバイスへの適合性を明確にすることを目的に行なわれた。基板としては当初InGaAsP/InP系との組み合わせを考えInPを相定して実験を行なったが他の電子デバイスとの集積化の容易さを考慮してSiも用いた。まず厚さ方向に重ねたチャネル型方向性結合型スイッチを提案しその解析をおこない超格子型導波路の優位性を示した。続いてSi上GaAs中の転移と熱歪みを低減するための新しい手法を提案実証した。この手法はSiとGaAsの界面の一部を除去するもので、転移の源である部分を取り除くことにより転移を低減し、かつ形状効果により歪みの緩和もねらったものである。転移をエッチングにより歪みをフォトルミネッセンスにより評価したところどちらも低減していることが確かめられた。さらに光導波路をSi上に成長しその導波特性が理論値と一致することを示した。以上のことから格子不整合へテロエピタキシ-を用いて種々の光デバイスが作製可能であることがわかった。これらの成果を踏まえ今後光デバイスの研究を進めてゆく方定である。

報告書

(3件)
  • 1990 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 1989 実績報告書
  • 研究成果

    (33件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (33件)

  • [文献書誌] Shuji NAKAMURA: "“TRANSIENTーMODE LIQUID PHASE EPITAXIAL GROWTH OF GaAs ON GaAsーCOATED Si SUBSTRATES PREPARED BY MIGRATIONーENHANCED MOLECULAR BEAN EPITAXY"" JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH. 97. 303-309 (1989)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Shiro SAKAI: "“LIQUID PHASE EPITAXIAL GROWTH AND LAYER PROPERTIES OF GaAs ON Si SUBSTRATES"" Bulletin of Faculty of Engineering,The University of Tokushima. 26. 27-41 (1989)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Shiro SAKAI.: "“GROWTH OF InAsP BY LIQUID PHASE ELECTROーEPITAXY"" 9TH Symposium Record of Alloy Semiconductor Physics and Electronics Symposium. 141-148 (1990)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Shiro SAKAI: "“STRESS DISTRIBUTION ANALYSIS IN STRUCTURED GaAs LAYERS FABRICATED ON Si SUBSTRATES"" JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 29. 853-855 (1990)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Shiro SAKAI: "“STRUCTURES FOR THERMAL STRESS REDCTION IN GaAs LAYERS GROWN ON Si SUBSTRATE"" JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 29. 2077-2081 (1990)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Koji KAWASAKI: "“GEOMETRICAL EFFECTS ON THE THERMAL STRESS IN GaAs LAYERS GROWN ON Si SUBSTRATES"" Inst.Phys.Conf.Ser. 112. 269-274 (1990)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Noki WADA: "“A NEW REACTOR FOR METALORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION EQUIPPED WITH AN INTERNAL ROTARY FLOW SELETOR"" JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 30. 251-252 (1991)

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      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 酒井 士郎: "“Si基板上のGaAsの熱歪み"" 固体物理. 25. 53-62 (1990)

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      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 酒井 士郎: "“ここまで来た薄膜化技術"" Quartech(財団法人四国産業技術振興センタ-). 6. 2-4 (1990)

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      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Shiro SAKAI: "“GROWTH OF InAsP ON InP By LIQUID PHASE ELECTROEPITAXY"" to be pubulished in Jpn.J.Appl.Phys.Lett.

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      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Koji KAWASAKI: "“THERMAL STRESS AND DEFECT REDUCTION IN UNDERCUT GaAs ON Si SUBSTRATE"" Submitted Appl.Phys.Lett.

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
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      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Shiro SAKAI 、他: "“COMPOUNO SEMICONDUCTORS:GROWTH.PROCESSING.AND DEVICES"" CRC Press., 151 (1989)

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    • 関連する報告書
      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Shuji NAKAMURA: ""Transient-Mode Liquid Phase Epitaxial Growth of GaAs on GaAs-Coated Si Substrates Prepared by Migration-Enhanced Molecular Beam Epitaxy"" Journal of Crystal Growth. Vol. 97. 303-309 (1989)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Shiro SAKAI: ""Liquid Phase Epitaxial Growth and Layer Properties of GaAs on Si Substrates"" Bulletin of Faculty of Engineering, The University of Tokushima. Vol. 26. 27-41 (1989)

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      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Shiro SAKAI: ""Growth of InAsP by Liquid Phase Electro-Epitaxy"" 9TH Symposium Record of Alloy Semiconductor Physics and Electronics Symposium. 141-148 (1990)

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      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Shiro SAKAI: ""Stress Distribution Analysis in Structured GaAs Layers Fabricated on Si Substrates"" Japanese Journal of Applied Physics. Vol. 29, No. 6. L853-L855 (1990)

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    • 関連する報告書
      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Shiro SAKAI: ""Structures for Thermal Stress Reduction in GaAs Layers Grown on Si Substrate"" Japanese Journal of Applied Physics. Vol. 29, No. 10. 2077-2081 (1990)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Koji KAWASAKI: ""Geometrical Effects on the Thermal Stress in GaAs Layers Grown on Si Substrates"" Inst. Phys. Conf. Ser. No. 112. Chapter 5. 269-274 (1990)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Naoki WADA: ""A New Reactor for Metalorganic Chemical Vapor Deposition Equipped with an Internal Rotary Flow Selector"" Japanese Journal of Applied Physics. Vol. 30, No. 1. L251-L252 (1991)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Shiro SAKAI: ""Growth of InAsP on InP by Liquid Phase Electroepitaxy"" Jpn. J. Appl. Phys. Lett.

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Koji KAWASAKI: ""Thermal Stress and Defect Reduction in Undercut GaAs on Si Substrate"" Appl. Phys. Lett.

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      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Shiro SAKAI: CRC Press., USA. "Compound Semiconductors : Growth, Processing, and Devices", 151 (1989)

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    • 関連する報告書
      1990 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Noki WADA: "“A NEW REACTOR FOR METALORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION EQUIPPED WITH AN INTERNAL ROTARY FLOW SELECTOR"" JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 30. 251-252 (1991)

    • 関連する報告書
      1990 実績報告書
  • [文献書誌] 酒井 士郎: "“Si基板上のGaAsの熱歪み"" 固体物理. 25. 53-62 (1990)

    • 関連する報告書
      1990 実績報告書
  • [文献書誌] 酒井 士郎: "“ここまで来た薄膜化技術"" Quartech(財団法人四国産業技術振興センタ-). 6. 2-4 (1990)

    • 関連する報告書
      1990 実績報告書
  • [文献書誌] Shiro SAKAI: "“GROWTH OF InAsP ON InP BY LIQUID PHASE ELECTROEPITAXY"" to be pubulished in Jpn.J.Appl.Phys.Lett.

    • 関連する報告書
      1990 実績報告書
  • [文献書誌] Koji KAWASAKI: "“THERMAL STRESS AND DEFECT REDUCTION IN UNDERCUT GaAs ON Si SUBSTRATE"" Submitted Appl.Phys.Lett.

    • 関連する報告書
      1990 実績報告書
  • [文献書誌] 酒井士郎: "Liquid phase epitaxial growth and layer properties of GaAs on Si substrates" Bulletin of Faculty of Engineering,The University of Tokushima. 26. 27-41 (1989)

    • 関連する報告書
      1989 実績報告書
  • [文献書誌] 酒井士郎: "Si基板上のGaAsk熱歪み" 固体物理. 25. 193-201 (1990)

    • 関連する報告書
      1989 実績報告書
  • [文献書誌] 酒井士郎: ":Stress distribution analysis in structured GaAs layers fabricated on Si substrates" Jpn.J.Appl.phys.

    • 関連する報告書
      1989 実績報告書
  • [文献書誌] 酒井士郎: "Thermal stress in lifted GaAs layers on Si" Jap.J.Appl.phys.

    • 関連する報告書
      1989 実績報告書
  • [文献書誌] 酒井士郎: "回転フロ-チャンネル式新型MOCVD装置の開発" 応用物理学会1990年3月.

    • 関連する報告書
      1989 実績報告書
  • [文献書誌] 川崎宏治: "GaAs on Si中の熱歪" 応用物理学会1990年3月.

    • 関連する報告書
      1989 実績報告書

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公開日: 1989-04-01   更新日: 2016-04-21  

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