| 研究課題/領域番号 |
01632515
|
|---|
| 研究種目 |
重点領域研究
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 研究機関 | 京都工芸繊維大学 |
|---|
研究代表者 |
西野 茂弘 京都工芸繊維大学, 工芸学部, 助教授 (30089122)
|
|---|
| 研究分担者 |
松村 信男 京都工芸繊維大学, 工芸学部, 助手 (60107357)
更家 淳司 京都工芸繊維大学, 工芸学部, 教授 (90026154)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
1989
|
| 研究課題ステータス |
完了 (1989年度)
|
| 配分額 *注記 |
2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
1989年度: 2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
|
|---|
| キーワード | プラズマCVD / 減圧CVD / 立方晶SiC / 3C-SiC / ヘテロエピタキシャル / SiC on Si / 結晶成長 |
|---|
| 研究概要 |
1)低温成長による単結晶SiCの成長
アセチレン、ジシランを原料ガスとしたプラズマCVD法により、Si基板上に単結晶SiCを成長することができた。成長には簡単な温度プログラムを採用した。Si(100)基板上では1150℃、Si(111)基板上では1000℃でエピタキシヤル成長した。単結晶SiCの成長のメカニズムを調べるために、成長速度の反応ガス流量依存性を調べた。
2)成長速度の基板関度依存性
基板温度700℃〜1000℃の範囲で成長速度を調べた。減圧CVD、プラズマCVD共、800℃を境に2つの活性化エネルギ-をもつ。800℃以上では両者とも同じ活性化エネルギ-をもつが、800℃以下では、プラズマCVDの活性化エネルギ-は極端に小さく、プラズマの効果が見られる。
3)成長速度の反応ガス流量依存性
成長速度はアセチレン流量に対して平悦しないが、ジシラン流量に対しては、その2乗に比例して変化した。このことから成長にはジシランの2分子反応が関与していることが判明した。
4)反応モデル
上記の反応ガス流量依存性より、アセチレンの反応は速く、ジシランの流量で反応が決まることが判った。単結晶成長にはC-リッチの条件が必要であることより、Si基板表面には多量のCがまず存在し、そこに吸着する。Cの吸着は連続しては起らず、Cの吸着、結合で成長が進む。反応種の質量分析の結果と合せて考察することにより、この機構はSi、Cの2種類の基板表面への吸着、脱離を基本とするRedeal形反応機構で説明できる。
|
