走査トンネル顕微鏡による,シリコン(100)面における銀の薄膜形成の初期過程

• 研究課題/領域番号: 01750005
• 研究種目: 奨励研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 応用物性
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 橋詰 富博 東京大学, 物性研究所, 助手
• 研究期間 (年度): 1989
• 研究課題ステータス: 完了 (1989年度)
• 配分額: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円); 1989年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)