ヘテロ界面を有する積層型導電性高分子薄膜の合成とそれを用いた分子素子の基礎設計

• 研究課題/領域番号: 01750833
• 研究種目: 奨励研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 高分子合成
• 研究機関: 岩手大学
• 研究代表者: 渡辺 明 岩手大学, 工学部, 助手
• 研究期間 (年度): 1989
• 研究課題ステータス: 完了 (1989年度)
• 配分額: 900千円 (直接経費: 900千円); 1989年度: 900千円 (直接経費: 900千円)