| 研究概要 |
本研究は,研究分担者・島田の考案によるU字形タ-ゲットをもつ移動プラズマ型スパッタ法を用いて,Co基アモルファス薄帯を長尺のフイルム基板上に成膜させ,超低損失の高周波用磁心材料を得ることを目的としている。
研究計画は3か年の予定で,初年度には,主として,スパッタリング装置本体および周辺機器の設計・製作を行い,2年度から薄膜の試作を進めてきた。しかし,この間,装置の製作や種々の手直しに予想以上の期間と労力を費やしたため,計画は当初見込みより大幅に遅れる結果となった。
本年度,ようやく成膜条件を制御して,優れた軟磁性をもつCo基のアモルファス薄膜が作製できる手掛かりが得られるようになった。しかし「研究経過報告書」にも記載したとおり,計画自体の遅れとアモルファス薄膜磁心を取り巻く研究開発状況の最近の大きな変化から,高周波用磁心材料としてのアモルファス薄膜は,さらに基礎的な検討が必要になったと考えられる。本研究計画は日程の上では一応終了するが,さらに1カ年程度,磁区観察による磁化機構など検討を詳しく行い,高周波用の超低損失アモルファス薄帯磁心についてとりまとめる予定で,現在,準備中ある。
|
