| 研究課題/領域番号 |
01850180
|
|---|
| 研究種目 |
試験研究(B)
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 研究分野 |
無機工業化学・無機材料工学
|
|---|
| 研究機関 | 大阪府立大学 |
|---|
研究代表者 |
南 努 大阪府立大学, 工学部, 教授 (80081313)
|
|---|
| 研究分担者 |
小和田 善之 兵庫教育大学, 自然系, 助手 (90205542)
足立 裕彦 兵庫教育大学, 自然系, 教授 (60029105)
町田 信也 大阪府立大学, 工学部, 助手 (10190381)
辰巳砂 昌弘 大阪府立大学, 工学部, 講師 (50137238)
峠 登 大阪府立大学, 工学部, 助教授 (00081315)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
1989 – 1990
|
| 研究課題ステータス |
完了 (1990年度)
|
| 配分額 *注記 |
8,100千円 (直接経費: 8,100千円)
1990年度: 2,700千円 (直接経費: 2,700千円)
1989年度: 5,400千円 (直接経費: 5,400千円)
|
|---|
| キーワード | ゾル-ゲル法 / 金属アルコキシド / 安定化剤 / 酸化物薄膜 / 金属基板 / 表面改質 / 耐熱件 / 撥水性 / ゾルーゲル法 / パッシベ-ション / 密着性 / ベ-タジケトン / 耐食性 / 耐候性 |
|---|
| 研究概要 |
本研究は、ZrOa,Al_2O_3,TiO_2,SiO_2などの単成分あるいは多成分被膜を金属基板に形成するためのプロセスの確立と、表面改質の応用を目的として行ったものであり、以下のような成果を得た。
1.金属基板へのSiO_2膜の形成において、出発原料としてSi(OC_2H_5)_4と同時にCH_3Si(OC_2H_5)_3を用いると、被膜を形成後も各種の加工が可務となることを見出した。また、金属基板を(クロム酸+硫酸)水溶液で処理することが、基板と被膜の密着性を向上させるのに効果的であった。
2.オクチル酸ジルコニウムを用いることにより、鋼板ヘZrO_2被膜を連続的に形成することが可能となった。さらに、被膜にフッ素を導入することにより、良好な撥水性を付与することができた。
3.Alのアルコキシドのように加水分解の速い原料は、βージケトンやアミン類で安定することができた。また、安定化の効果は溶媒の種類に依存することを見出した。
4.PbTiO_3ーPbzrO_3系強誘電性薄膜も、TiおよびZrのアルコキシドをアセチルアセトンなどで安定化することにより、大気中で作製することができた。これらの薄膜は優れた強誘電特性を示した。
5.MOーB_2O_3ーSiO_2系(M=Mg,Zn)あるいはP_2O_5ーB_2O_3ーSiO_2系パッシベ-ション膜は、作製するための条件を明らかにした。さらに、Tio_2ーSiO_2系膜はガラスの耐候性を大きく向上させることを見出した。
6.TiO_2ーSiO_2ゾルに有機高分子を添加すると、ゲル化時間が遅くなり、生成するゲル膜は柔軟になった。この膜にはスタンパ-を用いてサブミクロンオ-ダ-の微細加工が可能であった。
7.LiとTiのアルコキシンドとリン酸を用いて、イオン伝導性LiTi_2(PO_4)_3を低温で合成できた。一方、H_3PM_<12>O_<40>を含むシリカ膜は高いプロトン伝導性を示した。
|
