| 研究課題/領域番号 |
02204022
|
|---|
| 研究種目 |
重点領域研究
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 研究機関 | 東洋大学 |
|---|
研究代表者 |
吉田 泰彦 東洋大学, 工学部, 助教授 (80134500)
|
|---|
| 研究分担者 |
鯉沼 秀臣 東京工業大学, 工業材料研究所, 教授 (70011187)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
1990
|
| 研究課題ステータス |
完了 (1990年度)
|
| 配分額 *注記 |
2,100千円 (直接経費: 2,100千円)
1990年度: 2,100千円 (直接経費: 2,100千円)
|
|---|
| キーワード | イオンプレ-テイング / 熱フィラメントCVD / ダイヤモンド / カ-ボン膜 / 固体ゲル / 有機色素 |
|---|
| 研究概要 |
1.イオンプレ-テイングによる有機色素化合物の薄膜化
有機色素化合物として金属フタロシアニン錯体やポルフィリン錯体を用いて、高周波イオンプレ-ティング法により金属を含む有機色素化合物の薄膜を作製した。生成した薄膜はどの様な有機溶媒にも溶けず、かなりの架橋構造を有していると思われる。この有機色素薄膜の電気的特性・光学的特性に関して詳細に検討した。
2.光・プラズマハイブリッドCVDによるアモルファス超格子の作製 ジシラン誘導体とテトラフルオロメタンの混合ガスの光CVD、プラズマCVD法によりアモルファスシリコン(aーSi:H)膜と炭化ケイ素(aーSiC:H:F)膜の膜厚を制御した積層薄膜を作製し、その光学的特性について検討した。
3.熱CVD法によるダイヤモンド薄膜の作製
低圧合成法によるダイヤモンド薄膜の作成においては多量の水素ガス存在下、炭素源として気体(メタン、エタン等)や液体(メタノ-ル、エタノ-ル等)が使用されているが、これらの物質では運搬や取り扱いが難しいという欠点がある。また、新しい炭素源を開発することにより、ダイヤモンド薄膜に新たな機能性も期待することができる。このため新しい炭素源としてアルコ-ルから作製した固体ゲルを用いて、ダイヤモンドの作成を試みた。固体ゲルは、酢酸カルシウムの飽和水溶液にアルコ-ルを加えることにより合成した。基板にSiを用い、フィラメント温度2000〜2400℃で1時間反応させた。反応条件によりSi基板上に1ー10μmの様々な形状のダイヤモンド結晶が成長した。
4.以上の研究により、アモルファス超格子、有機色素薄膜やダイヤモンド薄膜の作成が可能であることが明らかにしたので、次年度ではこれら薄膜の積層化を行い、薄膜の機能化を目指す。
|
