| 研究課題/領域番号 |
02453101
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| 研究種目 |
一般研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
高分子物性・高分子材料
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| 研究機関 | 京都大学 |
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研究代表者 |
尾崎 邦宏 京都大学, 化学研究所, 教授 (00027046)
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| 研究分担者 |
井上 正志 京都大学, 化学研究所, 助手 (80201937)
根本 紀夫 京都大学, 化学研究所, 助教授 (90027053)
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| 研究期間 (年度) |
1990 – 1991
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| 研究課題ステータス |
完了 (1991年度)
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| 配分額 *注記 |
6,300千円 (直接経費: 6,300千円)
1991年度: 1,800千円 (直接経費: 1,800千円)
1990年度: 4,500千円 (直接経費: 4,500千円)
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| キーワード | 流動複屈折 / 光弾性 / 高分子ガラス / ガラス転移 / 応力緩和 / 粘弾性 / ポリスチレン / ポリカ-ボネ-ト |
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| 研究概要 |
1.現有の引張試験機に光学系をつけることにより、応力と複屈折の緩和の同時測定装置を開発した。この装置では、30mmx4mmx1mm程度の高分子膜を試料とし、測定時間範囲は1〜10000秒、温度範囲は0〜200℃である。同様に、動的粘弾性と動的複屈折の同時測定装置を開発した。同様な試料について、振動数1〜200Hz、温度0〜250℃の範囲で測定することができる。
2.ガラス領域およびガラス転移領域における、ポリスチレンの複屈折の挙動を記述するために、修正光弾性則を提案した。この解析法により、粘弾性のガラス転移現象が、2種類の緩和スペクトルの重るあわせで説明できることが判明した。
3.ポリーαーメチルスチレン、ポリカ-ボネ-ト、ポリアリレ-ト、ポリスルフォン、ポリエ-テルスルフォン、ポリエ-テルイミド、ポリエ-テルエ-テルケトンについて動的複屈折の測定を行い、修正光弾性則に基づいて解析した。その結果、これらの高分子およびポリスチレンについては、複屈折の強さを決定する応力ー光学係数と分子構造との関係を明らかにすることができた。
4.ポリスチレンおよびポリカ-ボネ-トに関して、瞬間的な大変形の後および一定速度での大変形の際の複屈折および応力を測定し、修正応力ー光学対応則で解析した。その結果、これらのガラス状高分子の大変形の際の降状現象が、分子間力に由来するエンタルピ-起源の応力の降状によること、高分子の連結性に由来するエントロピ-起源の応力は降状現象を示さないことが明らかになった。
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