| 研究課題/領域番号 |
02555181
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| 研究種目 |
試験研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
高分子物性・高分子材料
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| 研究機関 | 東北大学 |
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研究代表者 |
松田 実 東北大学, 反応化学研究所, 教授 (90006297)
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| 研究分担者 |
伊藤 清樹 チッソ株式会社, 横浜研究所, 研究員
小野 浩 チッソ株式会社, 横浜研究所, 主席研究員
東 廣己 チッソ株式会社, 横浜研究所, グループリーダー
渡辺 明 東北大学, 反応化学研究所, 助手 (40182901)
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| 研究期間 (年度) |
1990 – 1992
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| 研究課題ステータス |
完了 (1991年度)
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| 配分額 *注記 |
8,200千円 (直接経費: 8,200千円)
1991年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
1990年度: 7,000千円 (直接経費: 7,000千円)
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| キーワード | ポジ型レジスト / サブハ-フミクロン / ポリスルホン / 電子線レジスト / 耐酸素プラズマ性 / 含ケイ素ポリマ- / ケイ素ポリマ- / 耐ドライエッチング |
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| 研究概要 |
1.目的 線幅(line and space;L&S)を0.5ミクロン以下(サブハ-フミクロン)に微細化されたパタ-ンを有し、耐ドライエッチング性のポジ型(分解型)の電子線及びエキシマレ-ザ-用のレジスト高分子を設計、合成、評価し、実用化を目指す。
2.実験 上記の目的を達成するために、pートリメチルシリルスチレン(TMSS、市販品)及び合成したpーペンタメチルジシリルスチレン(PMSS)と二酸化硫黄の交互共重合物をー78℃で酸化還元触媒を用いて合成した。分子量は数十万から百万で、有機溶剤に可溶であった。
3.結果 PMSSとSO_2の交互共重合物のガラス転移温度は188℃、また酸素プラズマ耐性を決定したが、2.5ナノメ-タ/分であり、これは熱架橋型のノボラック樹脂のそれに比べて36倍も遅く、かつ、TMSSとSO_2の交互共重合物と比較してもより良い値であり、このことは、共重合物中のケイ素含量に由来している。PMSSとSO_2の交互共重合物について50KVの加速電圧の電子線照射を行いパタ-ニングを行った結果、適当な現像液を用い、かつ、現像温度、膜厚を制御することにより、実用的な感度で0.1ミクロンL&Sの超高解像度パタ-ンを得ることができた。これらのデ-タ-は、合成した交互共重合物は二層レジスト法において上層のレジスト高分子として十分に使用可能であることを示している。エキシマ-レ-ザ-露光の場合においても、電子線照射の場合と同じく照射部で分解反応が起こり現像液に可溶となりポジ像を与えた。感度は、150mJ/cm^2、解像度は0.5ミクロンと実用的に満足できる値は得られなかった。これは、現像条件の最適化がまだなされていないということにもよるが、レ-ザ-発光波長における膜の光吸収が大きく、光が膜下部まで十分届かないためであると思われる。
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