| 研究概要 |
1.超薄膜の複屈折率の理論解析
超薄膜の積層方向の違う三種の構造に関して数値計算を行った結果,光の入射面が積層面に平行の場合のみ全反射時のリタ-デ-ションを零にすることが可能であることを見出した.
2.超薄膜構造による複屈折制御膜の試作研究
(1)非晶質材料による研究
ガラス基板上にSiO_2及びTiO_2の化合物溶液をスピナ-を用いて塗布後電気炉で焼成することを交互に繰り返すことにより膜厚一層当たり300〜1,000A^^°で二十層余りの積層膜を作製することができた.さらにこれらの膜についてエリプソメトリ-により複屈折性を測定し,理論値と比較検討した.更なる多層膜化については焼成時にクラックが生じるため困難であることが見出された.
(2)高分子材料による研究
ガラス基板上にポリメチルメタクリレ-ト及びポリスチレンのトルエン溶液をスピナ-を用いて塗布後数分間自然乾燥することを交互に繰り返すことにより膜厚一層当たり約5μmで五十層前後の積層膜を作製することができた.さらにこの膜の加熱延伸を行ったが超薄膜化は達成できなかった.また作製膜の重ね合わせ後の延伸による超薄膜の作製は膜の白濁化が問題となり,この手法の確立が今後の課題といえる.
上記二種の材料について比較検討を行った結果,後者の方が作製プロセスが簡易で延伸法が適用可能であるのでこの手法の確立により誘電体超薄膜積層構造による複屈折制御が実現可能と推測される.
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