| 研究分担者 |
堀池 靖浩 広島大学, 工学部, 教授 (20209274)
後藤 俊夫 名古屋大学, 工学部, 教授 (50023255)
籏野 嘉彦 東京工業大学, 工学部, 教授 (90016121)
佐藤 徳芳 東北大学, 工学部, 教授 (40005252)
田頭 博昭 北海道大学, 工学部, 教授 (10001174)
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| 配分額 *注記 |
15,800千円 (直接経費: 15,800千円)
1993年度: 3,800千円 (直接経費: 3,800千円)
1992年度: 6,600千円 (直接経費: 6,600千円)
1991年度: 5,400千円 (直接経費: 5,400千円)
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| 研究概要 |
本研究課題は半導体プロセスに不可欠の技術であるプラズマプロセシングに関して最も重要な働きをしているプラズマのシース,すなわち,プラズマと固体表面との間に存在するインターフェースについて組織的な研究を開始したものである。
本年度は3か年計画の最終年度であり,2回の研究会を開き,研究成果のまとめを行った。
本研究における成果の主なものは次の通りである。
1.シースの構造について
条件の異なるプラズマすなわち、RFプラズマ,電子ビームプラズマ,マグネトロンプラズマ,微粒子プラズマ、ならびに特性の異なる固体壁すなわち電子放出電極,導体壁、および絶縁体壁前面におけるシースやプリシースの構造,特性について知見を得た。
2.シースのモデリングについて
固体表面に構造を持つ場合を含むシースについての各種シミュレーション技法が開発され,その結果として,RFプラズマの場合にボーム条件が従来のものと異なること,微粒子を含む場合にはシースの構造が2段になること,壁が絶縁物の場合には,壁への熱流束はイオンによるものよりも電子によるものの方が遥かに大きくなること等が明らかになった。
3.ラジカル、微粒子の生成と流束
プラズマ中の各種ラジカルの振舞いに関する計測が進み、各種ラジカル,特にCH系ならびにCF系の電子衝突生成断面積、密度分布,シースを横切るラジカル束,固体表面に入射するイオンによるラジカル生成等が定量的に明らかにされた。
シランプラズマ内の微粒子発生の時間的,空間的振舞が明らかになった。
プラズマに関するパラメタ制御によるエッチング特性やCVDの膜特性の改善が得られ、プロセス用プラズマ改良の有効性が示された。
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