| 研究課題/領域番号 |
03640566
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| 研究種目 |
一般研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
植物生理学
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| 研究機関 | 東京理科大学 |
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研究代表者 |
井上 康則 東京理科大学, 理工学部, 助教授 (50092143)
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| 研究期間 (年度) |
1991 – 1992
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| 研究課題ステータス |
完了 (1992年度)
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| 配分額 *注記 |
1,800千円 (直接経費: 1,800千円)
1992年度: 300千円 (直接経費: 300千円)
1991年度: 1,500千円 (直接経費: 1,500千円)
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| キーワード | インゲン / ジベレリン / 光形態形成 / 光成長反応 / レタス / 3β水酸化酵素 / 胚軸 / フィトクロム |
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| 研究概要 |
レタス種子の供給が間に合わなかったことから、本年度はインゲンを材料として胚軸伸長成長の光による抑制にレタスの場合と同様にジベレリンが関与しているか否かを確認するため以下の研究を行った。
(1)光の効果が顕著に現れる時期の決定。連続光照射による阻害の割合は芽生えが培養土中から出芽する5日以降80-90%とほぼ一定であった。この結果から、取扱が楽な播種6日目の個体を材料とした。
(2)光強度の影響。白色光の強度を変化させると、効果は0.4Wm^<-2>程度から飽和に近づいた。
(3)照射時間の影響。光の照射時間が長くなるに従い阻害は強くでるようになり、照射時間の対数に比例する照射時間が12時間以上では24時間連続照射と同程度の阻害効果となり、レタスと同様な結果となった。
(4)光阻害のジベレリン投与による回復。暗黒下ではジベレリンは伸長成長にほとんど影響を与えないが、白光下では胚軸長は暗黒対照のレベルまで回復し、光反応にジベレリンが関与している可能性が高くなった。
(5)ジベレリン合成阻害剤の効果。ジベレリン合成阻害剤を与えると、光照射下の伸長はまったく影響を受けいが、暗所での伸長は顕著に阻害され、インゲン胚軸の伸長成長にジベレリンが必須であることが推測された。
(6)ジベレリン合成阻害剤の効果のジベレリンによる回復。(5)で観察された効果が真にジベレリンを介して現れたならば、ジベレリンを外部から与えたことにより阻害剤の効果は打ち消されねばならない。阻害剤による成長抑制効果は、ジベレリンを投与することにより回復するが、光照射下では暗黒下に対して約10倍の濃度のジベレリンが必要で、光照射によりジベレリンの濃度が低下すると同時に、ジベレリンに対する感受性も低下している可能性が示唆された。
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