| 研究課題/領域番号 |
03650752
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| 研究種目 |
一般研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
高分子合成
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| 研究機関 | 神奈川大学 |
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研究代表者 |
西久保 忠臣 神奈川大学, 工学部, 教授 (20120967)
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| 研究分担者 |
亀山 敦 神奈川大学, 工学部, 助手 (80231265)
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| 研究期間 (年度) |
1991 – 1992
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| 研究課題ステータス |
完了 (1992年度)
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| 配分額 *注記 |
1,900千円 (直接経費: 1,900千円)
1992年度: 300千円 (直接経費: 300千円)
1991年度: 1,600千円 (直接経費: 1,600千円)
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| キーワード | 光熱変換・蓄積 / NBD残基 / 高分子の合成 / カチオン重合 / 高分子反応 / 重縮合反応 / PGMA / ポリアミド / 光ー熱変換機能高分子 / 選択カチオン重合 / 機能性モノマ- / ノルボルナジエン残基 / クワドリシクラン残基 / 光反応性 / 蓄熱量 |
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| 研究概要 |
本研究は、高性能の光-熱エネルギー変換・蓄積機能を有する高分子の合成方法の確立と得られたポリマーの光-熱変換性能の評価を目的としたものであり、研究概要は以下の通りである。
(1)機能性モノマーである2{[(3-フェニル-2、5-ノルボルナジエニル)-2-カルボニル]オキシ}エチルビニルエーテルを合成し、このモノマーのカチオン重合や他のモノマーとのカチオン共重合により、側鎖にノルボルナジェン(NBD)残基を有する可溶性ポリマー類を合成し、得られたポリマーの光反応について検討を行なった。
(2)光熱変換・蓄積高分子の簡便な合成方法の確立の観点から、ポリグリシジルメタクリラート(PGMA)側鎖のエポキシ基と2、5-NBD-2-カルボン酸およびカルボン酸クロリドとの付加反応により、側鎖にNBD残基を有する種々のポリマーを合成について検討した。さらに、得られたポリマーの光反応についても検討を行った。
(3)界面重縮合法による、2、2-NBD-2、3-ジカルボン酸クロリドとジアミン類との反応により主鎖にNBD残基を有する種々のポリアミド類を合成し、得られたポリマーの光反応について検討を行なった。
(4)既報の側鎖にNBD残基を持ったポリマーの吸収波長領域は250-420nm程度である。したがって太陽光の有効利用の観点から、さらに広い感光波長領域を有する高感度のNBD残基の開発が必要とである。そこで、新しいタイプのNBD化合物の合成とその高分子化について検討を行なった。3-フェニル-2、5-NBD-2-(4'-ヒドロキシフェニル)ケトン型のNBDを合成し、ポリクロロメチルスチレンとの高分子反応を行なった。その結果、得られたポリマーは高い光反応性を示し、約60秒の光照射でQCの変換される事が判明した。
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