| 研究概要 |
干渉計用光源としての周波数安定化レーザーでは、参照共振器の周波数幅が10KH_Zまたはそれ以下で、高フィネス(10000以上)共振器が必要になる。また、高フィネス共振器では、共振器内部の電界強度が極めて高くなるため、ミラーのレーザーによる損傷がレーザー出力の限界を与えるようになる。このように、高フィネスでしかも高い電界強度を考慮したミラーを製作するには、ミラー基板面の超平滑加工,高度な洗浄,パッキング密度が1となるような蒸着法が必要となる。
本研究では、ミラー基板を光学研磨した後の洗浄法、あるいは蒸着までの基板の保管法によって発生する基板ガラスのヤケの防止法について調べた。また、発生したヤケの程度が軽い場合は、イオンビームエッチング法によって基板表面の粗さを変化させる事なくヤケを徐去できることを見つけた。
先づ、ヤケの発生実験では、りん酸塩レーザーガラスを用い、ガラス表面上を指紋,クリーニング溶剤による拭き残り,クリーンな部分の3ヶ所に分割した。このサンプルガラス表面に各種の保護膜をつけ、ヤケの発生実験を行った。その結果、市販のOpti-Clean Polymerが保護膜として最も優れているのを見つけた。また、ガラス表面が、僅かにヤケている場合は、イオンビームエッチングによってガラスの表面粗さに殆んど影響を与える事なくヤケを除去できた。
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