| 研究課題/領域番号 |
04241101
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| 研究種目 |
重点領域研究
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
干鯛 眞信 東京大学, 工学部, 教授 (60011011)
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| 研究分担者 |
吉田 寿勝 大阪府立大学, 総合科学部, 教授 (50029443)
森 美和子 北海道大学, 薬学部, 教授 (80001981)
巽 和行 名古屋大学, 理学部, 教授 (10155096)
伊藤 嘉彦 京都大学, 工学部, 教授 (40026018)
秋鹿 研一 東工大, 総合理工学研究科, 教授 (20016736)
中村 晃 分子科学研究所, 教授 (80029404)
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| 研究期間 (年度) |
1994
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| 研究課題ステータス |
完了 (1994年度)
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| 配分額 *注記 |
63,500千円 (直接経費: 63,500千円)
1994年度: 27,100千円 (直接経費: 27,100千円)
1993年度: 19,500千円 (直接経費: 19,500千円)
1992年度: 16,900千円 (直接経費: 16,900千円)
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| キーワード | モリブデン窒素錯体 / ピロール / 混合金属窒素錯体 / 担持ルテニウム触媒 / イソニトリル錯体 / バナジウム-硫黄錯体 / フタルイミド / イミド錯体 / 窒素固定 / 窒素錯体 / タングステン-ジアゼニド錯体 / 含窒素複素環化合物 / 遷移金属-硫黄錯体 / 鉄-チオラート錯体 / チタン-ニトリド錯体 / モリブデン-イミド錯体 / ホスフィン-窒素錯体 / ジアゾアルカン錯体 / 遷移金属硫黄クラスター / ニトリド錯体 / チオエーテル-窒素錯体 |
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| 研究概要 |
1.MoおよびWの三級ホスフィン錯体に配位した窒素分子を、錯形成下で新規なピロリルイミド配位子へと変換できることを見いだした。本錯体はLiAlH_4で処理するとピロールやアミノピロールを与えた。また複数の金属中心を用いる特異な窒素固定系の開発に関連して、WとTi、Zr,Hfなど4族金属元素を含む架橋型窒素錯体の合成、CrやRuなどの錯体上で配位活性化されたフルオロアレーンとアニオン型W窒素錯体との反応による混合金属架橋アリールジアゼニド錯体の合成などにも成功した(干鯛)。
2.Al_2O_3やMgOに担持したルテニウム上への吸着窒素分子が、硝酸セリウムの添加や酸化-還元サイクルによるルテニウム粒子の高分散化などによりさらに活性化されることをFT-IR測定により解明し、アンモニア生成反応に対する触媒活性との関連を明らかにした。(秋鹿)。
3.窒素と等電子構造をもつ三級アルキルイソシアニドを配位子とするパラジウム錯体は、Si-Siσ結合切断反応に有効であり、フェニルアセチレンや電子不足オレフィンのジシリルを触媒することを見いだした(伊藤)。
4.バナジウムを含む窒素固定酵素活性部位モデルに関連して、三座硫黄配位子3-チアペンタン-1,5-ジチオラート(tpdt)を有するバナジウムの新規錯体[V(tpdt)_2]^-を単離し、その構造を解明した(巽)。
5.分子状窒素を窒素源とする新規な含窒素複素環化合物合成法として、TiCl_4/Li系によりMe_3SiClとN_2から触媒的に生成するN(SiMe_3)_3を無水フタル酸と系中で反応させることによりフタルイミドを得る反応を開発した(森)。
6.環状テトラチアエーテルMe_3[16]aneS_4を補助配位子とする窒素錯体から誘導されるイミド錯体はアセトンやベンズアルデヒドに付加し、α-ヒドロキシアルキルイミド錯体(MoNC(OH)RR')を与えることを見いだした(吉田)。
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