| 研究分担者 |
三好 良夫 大阪大学, 基礎工学部, 助教授 (40029434)
英 崇夫 徳島大学, 工学部, 教授 (20035637)
吉岡 靖夫 武蔵工業大学, 工学部, 教授 (40061501)
広瀬 幸雄 金沢大学, 教育学部, 教授 (20019425)
鈴木 賢治 新潟大学, 教育学部, 助教授 (30154537)
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| 研究概要 |
1.アルミナおよび窒化ケイ素の共通測定を行った結果,前者についてはFe-Kα線による2.1.10回折,後者についてはV-Kα線による411回折が精度が高かった.この結果を基に,X線応力測定の標準的測定条件の設定の基礎が固められた.
2.低角入射X線法により,セラミックス研削面の極近傍の残留応力分布を非破壊的に測定することが可能となった.
3.イメージングプレートを使用することにより,cosα法を用いた微小領域の高精度X線応力測定が可能となった.
4.ジルコニア・アルミナ,SiC強化アルミニウム合金,WC-Co合金およびアルミナ/SiC粒子分散等の複合材料の3軸残留応力解析法が確立された.
5.CVD法でコーティングされたTiC膜の残留応力をX線測定し,その大部分が熱残留応力によるものであることが明らかとなった.
6.スパッタリング生成されたc軸配向を有するAlN膜のX線残留応力解析法を提案し,残留応力の基板温度依存性を明らかにした.
7.SiC/TiC複合コーティング膜では配向性の発達は顕著でなく,内部応力測定には応力の3軸性の考慮が必要であった.
8.窒化ケイ素,アルミナ,ジルコニア研削材の残留応力と研削条件との関係が明らかとなった.
9.研削材の曲げ強さは,窒化ケイ素とアルミナの場合,研削平行方向では圧縮残留応力のため強化されるが,垂直方向では研削欠陥のため弱化する.ジルコニアの場合はいずれの研削方向でも強化される.
10.R曲線法を用いたセラミックスの微小欠陥からの破壊解析モデルに対し,実験的な面からもモデルの妥当性を支持する結果が得られた.
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