化学的気相合成によるダイヤモンド薄膜形成における表面反応機構の分子論的解析

• 研究課題/領域番号: 04750178
• 研究種目: 奨励研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 熱工学
• 研究機関: 岐阜工業高等専門学校
• 研究代表者: 石丸 和博 岐阜工業高等専門学校, 助手
• 研究期間 (年度): 1992
• 研究課題ステータス: 完了 (1992年度)
• 配分額: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円); 1992年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)