高精度プラズマプロセスのためのオンウェハーモニタリングシステムに関する研究

• 研究課題/領域番号: 04F04143
• 研究種目: 特別研究員奨励費
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 外国
• 研究分野: 薄膜・表面界面物性
• 研究機関: 東北大学
• 研究代表者: 寒川 誠二
• 研究分担者: HONG S. J.
• 研究期間 (年度): 2004
• 研究課題ステータス: 完了 (2004年度)
• 配分額: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円); 2004年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)