| 研究概要 |
1.五配位(アルコキシ)ジシランの合成,熱分解反応および遷移金媒反応
新規五配位(エトキシ)ジシランを合成し,そのX線構造解析をおこた。さらに熱および遷移金属触媒に対する反応性を検討した。(エトキシ)ジシランMF中90℃またはトルエン中110℃で熱分解をおこし,エトキシシランとシリレ生成した。ブタジエンまたはアセチレンを用い,シリレンを捕捉することにも成功し捕捉により得られた生成物はケイ素上が五配位であり,きわめて興味深い構造特性をていることがX線構造解析により明らかとなった。五配位(エトキシ)ジシランは,ケル(0)触媒またはパラジウム(0)触媒存在下では,50℃という低温でも分解こした。このようにして,五配位(アルコキシ)ジシランの遷移金属触媒に対する特反応性を見いだすに至った。
2.パラジウム触媒を用いた(アルコキシ)オリゴシランの骨格転位15EA04:これまで合成が難しいとされてきたポリ(アルコキシ)トリシランおテトラシランの効率的合成法を開発した。さらに,これらのポリ(アルコキシ)トリンおよびテトラシランが,パラジウム触媒存在下で骨格転位を起こすことを見いだしこの反応では内部のトリシラン部位が末端へ転位した。たとえば1,2,3-トリ(キシ)トリシランは1,1,3-異性体に,1,2,3,4-テトラ(メトキシ)テシランは1,1,4,4-異性体に変化した。この転位は,シリレン-パラジウム錯経由して進行すると考えられる。
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