| 研究課題/領域番号 |
05650029
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| 研究種目 |
一般研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
表面界面物性
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| 研究機関 | 京都大学 |
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研究代表者 |
木村 健二 京都大学, 工学部, 助教授 (50127073)
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| 研究期間 (年度) |
1993
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| 研究課題ステータス |
完了 (1993年度)
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| 配分額 *注記 |
2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
1993年度: 2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
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| キーワード | 表面分析 / ラザフォード後方散乱法 / 高深さ分解能 / エピタキシャル成長 |
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| 研究概要 |
シリコン結晶にアンチモンを低温MBEの手法でδドーピングした試料を、本研究で開発した高分解能RBS法を用いて調べた。従来のSIMSを用いた研究ではドーピングされたアンチモンの深さ分布が、SIMSの深さ分解能に相当する約3nm以下であることが示されていた。今回、高分解能RBS法で測定したところ、アンチモンは0.6nm程度の広がりを持った分布をしていることが分かった。これにより、高分解能PBS法は、表面の定量分析では深さ分解能が最も良いされていたSIMSよりも、数倍以上深さ分解能が優れていることを示した。また、アンチモンのドーピング深さが数nm以下では、アンチモンの一部が表面に異常偏析していることが分かった。これは、アンチモンの拡散係数が、従来考えられていたよりもはるかに大きいことを示唆している。この詳細については、現在研究を続行中である。
高分解能RBS法を用いてPbTe/SnTe(001)およびAg/Si(001)のエピタキシャル成長の初期過程を観察した。その結果、PbTe/SnTe(001)では、従来の電子顕微鏡による観察から結論されていた様に、層状成長をしていることが確認できた。しかしながら、第一層が完全に成長する前に第2層が成長を開始しており、完全な層状成長とは異なっていることが分かった。Ag/Si(001)については、760Kでは0.5MLのみ銀が層状に吸着し、それ以上は成長しないことが分かった。また520Kでは0.5ML程度層状成長し、その後は島状の成長をすることが分かった。
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