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多孔質シリコンの発光機構に関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 05750280
研究種目

奨励研究(A)

配分区分補助金
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関東京農工大学

研究代表者

小山 英樹  東京農工大学, 工学部, 助手 (40234918)

研究期間 (年度) 1993 – 1994
研究課題ステータス 完了 (1994年度)
配分額 *注記
900千円 (直接経費: 900千円)
1993年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
キーワード多孔質シリコン / フォトルミネッセンス / エレクトロルミネッセンス / 超微粒子 / 発光スペクトル / 発光波長制御 / 量子サイズ効果 / 電子-格子相互作用
研究概要

フッ酸(HF)溶液中で光照射をすると,多孔質シリコンの発光効率が高まり,発光波長が短波長側にシフト(ブルーシフト)することはよく知られている.これは,多孔質シリコンを構成するシリコン微結晶が光化学反応により微細化し,電子・正孔の量子閉じ込め効果が増大したことによるものと解釈できる.この仮説をより確かなものにするため,本研究では,この光照射を色ガラスフィルター(短波長遮断フィルター)を通して行うことを試みた.おもな成果は以下の2点にまとめることができる.
1.発光波長制御の実証
いろいろな遮断波長をもつフィルターで実験を行ったところ,試料の発光波長は光照射時間の経過とともに連続的にブルーシフトし,使用したフィルターの遮断波長付近で発光波長のシフトが飽和するという結果が得られた.これは上記の仮説を支持する結果であり,多孔質シリコンの可視発光がシリコン微結晶における量子サイズ効果によるものであることを示す一つの証拠となるものである.同時に,試料の発光波長を制御する技術を開発したという点も重要である.
2.発光スペクトルの広がりの由来
本研究で用いた光照射法は,試料の均一性を高める効果ももっている.一般に多孔質シリコンの発光スペクトルは半値全幅が0.3〜0.4eVと広く,これは不均一性によるものと考えられてきた。そこで,この光照射法を利用して均一化を図った試料の発光スペクトル(半値全幅)がどのように変化するかを調べてみた.しかし,結果として得られたスペクトル形状は一般の試料と同様であった.この事実は多孔質シリコンの発光スペクトルの広がりが不均一性によるものではなく,電子-格子相互作用などの不均一性以外の原因によるものであることを示しており,発光機構解明に重要な鍵となる。

報告書

(1件)
  • 1994 実績報告書
  • 研究成果

    (2件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (2件)

  • [文献書誌] Hideki Koyama: "Photo-assisted tuning of luminescence from porous silicon" Journal of Applied Phisics. 74. 6365-6367 (1993)

    • 関連する報告書
      1994 実績報告書
  • [文献書誌] 小山 英樹: "多孔質シリコン" オプトロニクス. No.139. 70-75 (1993)

    • 関連する報告書
      1994 実績報告書

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公開日: 1993-04-01   更新日: 2016-04-21  

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