研究課題/領域番号 |
05F05101
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研究種目 |
特別研究員奨励費
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 外国 |
研究分野 |
材料加工・処理
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研究機関 | 東京大学 |
研究代表者 |
寺嶋 和夫 東京大学, 大学院新領域創成科学研究科, 助教授
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研究分担者 |
SVEN Stauss-Ueno 東京大学, 大学院新領域創成科学研究科, 外国人特別研究員
STAUSS-UENO Sven Nico 東京大学, 大学院・新領域創成科学研究科, 外国人特別研究員
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研究期間 (年度) |
2005 – 2006
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研究課題ステータス |
完了 (2006年度)
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配分額 *注記 |
2,400千円 (直接経費: 2,400千円)
2006年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
2005年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
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キーワード | マイクロプラズマ / 誘導結合型マイクロプラズマ / 熱電子援用型マイクロプラズマ / 微細加工技術 / フレキサブルプラズマ発生装置 / 計算シミュレーション / FETD法 / 非平衡プラズマ / DBDプラズマ / ICP |
研究概要 |
(1)誘導結合型マイクロプラズマの微小安定化とその高真空プロセシング装置への応用 マクロプラズマにおいて、重要なプロセスプラズマの一つになっている"誘導結合型プラズマ"の微小化、安定発生化を目指し、計算と実験の両面から進めた。計算は、従来考慮していなかった壁の効果(反応)、新たな空間反応の考慮により、より現実的な結果を得られた。また、従来の安定化のための熱電子援用型に加え、誘電体バリア放電援用型の誘導結合型マイクロプラズマの設計・作製も行なった。従来よりも半分以下での電力での安定発生が可能になった。 また、この高真空下での発生への応用も行なった。マクロの同種の装置に比べて、3桁も大きなラジカルフラックスが得られた。これを高真空装置に組み込んだ高真空マイクロプラズマプロセス装置、さらには、電子顕微鏡内に組み込んだ、マイクロプラズマ援用電子線ナノプロセシング装置のセットアップ、それを用いた、3次元的ナノ構造体作製の予備実験を始めた。これは、スイス連邦共和国の物質材料研究所との共同研究である。 (2)MEMS技術によるフレキサブルマイクロプラズマデバイスの開発 MEMS技術により、ポリイミド膜上にマイクロプラズマ電極を作製した(誘導結合型コイル、熱電子発生用の電極)。またそれの3次元的大面積増すプロセス装置への応用を開始した。これらの作製に関して、電磁界計算を行い、損失の少ない、コイル構造設計を行なった。
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