| 研究課題/領域番号 |
05F05418
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| 研究種目 |
特別研究員奨励費
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 外国 |
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| 研究分野 |
無機材料・物性
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| 研究機関 | 九州大学 |
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研究代表者 |
桑原 誠 九州大学, 大学院・総合理工学研究院, 教授
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| 研究分担者 |
WANG J 九州大学, 大学院・総合理工学研究院, 外国人特別研究員
WANG J. 九州大学, 大学院総合理工学研究院, 外国人特別研究員
WAN Jinging 九州大学, 大学院・総合理工学研究院, 外国人特別研究員
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| 研究期間 (年度) |
2005 – 2007
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| 研究課題ステータス |
完了 (2007年度)
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| 配分額 *注記 |
2,400千円 (直接経費: 2,400千円)
2007年度: 600千円 (直接経費: 600千円)
2006年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
2005年度: 600千円 (直接経費: 600千円)
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| キーワード | ナノ粒子 / ゾルーゲル法 / マイクロパターニング / 自己組織高分子 / 電気泳動電着 / 金属導電性高分子 / 強誘電体薄膜 / ナノ結晶蛍光体 / ゾル-ゲル法 |
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| 研究概要 |
本研究期間中に得られた主な成果を以下に記す。
1)Si基板上へのBaTiO_3ナノ結晶薄膜の作製
Si基板上にC_6H_5NHC_3H_6Si(OMe)_3-SAM薄膜を形成し、この基板をアニリンモノマー塩酸酸性溶液中に浸漬後、重合させ導電性ポリアニリン(PANI)薄膜を形成した。この高分子電極上に厚さ10μm以上のBaTiO_3ナノ結晶薄膜をEPD法により作製する技術を確立した。(J.Eur. Ceram. Soc. 28,101-108(2008)に発表
2)モールドを用いないITO透明電極上へのBaTiO_3ナノ結晶マイクロパターンの形成
ITO基板上に厚さ5μmのホトレジスト膜を作製し、リソグラフィ技術を用いて種々のパターン電極を形成した。このITOパターン電極とPt/Siなど、任意の導電基板を5μmのホトレジスト膜を挟んで対向させこのギャップ中にBaTiO_3ナノ粒子サスペンションを注入した後、EPD法により任意の導電電極上にITOパターン電極のパターンを転写したBaTiO_3ナノ粒子パターンを作製することに成功した。このモールドレスパターン技術はナノ結晶デバイスの新規作製法として期待される。(J. Electroceramicsに投稿中)
3)逆オパール中へのBaTiO_3ナノ結晶へのEPD充填
ポリスチレン球を充填して作製したオパールフォトニック結晶の間隙に、10nm-BaTiO_3粒子をEPD法により充填し、強誘電体逆オパールの作製に成功した。(J. Am. Ceram. Soc., 90, 4062-65(2007)に発表)
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