研究課題/領域番号 |
06227224
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研究種目 |
重点領域研究
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配分区分 | 補助金 |
研究機関 | 東京工業大学 |
研究代表者 |
山本 經二 東京工業大学, 工学部, 教授 (80025999)
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研究分担者 |
土井 隆行 東京工業大学, 工学部, 助手 (90212076)
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研究期間 (年度) |
1994
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研究課題ステータス |
完了 (1994年度)
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配分額 *注記 |
2,300千円 (直接経費: 2,300千円)
1994年度: 2,300千円 (直接経費: 2,300千円)
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キーワード | ヒドロホルミル化 / 5配位錯体 / スチレン / ロジウム(I)触媒 |
研究概要 |
ヒドロホルミル化におけるRh(I)触媒はCO圧下、5配位錯体が触媒種であると考えられるので、ジエカトリアル2座配位を有利とするbite angle 〜120°の新規配位子1〜3を設計合成した。[Rh(CO)_2(acac)+ligand]のin situ 触媒前駆体で、スチレンのヒドロホルミル化を行ったところ、選択的な分岐アルデヒド生成のtumover frequency (TOF) [Rh atom^<-1>・h^<-1>,30℃]で示した触媒効率は、2(9.7)>1(4.6)>3=^^〜Ph_2P(CH_2)_2PPh_2(〜3)>Ph_2P(CH_2)_4PPh_2(1.8)となった。酢酸ビニルのヒドロホルミル化でも全く同じTOFの順序であった。従って、これらRh(I)の補助配位子における広いbite angle(〜120°)は触媒活性を維持する上で極めて優れていると結論できる。 しかしこれらは[2.2.1]heptane骨格からのペンダントの立体崇高さが不足している為、分岐アルデヒドでの不斉誘起が見られなかった。式1に従って新たにジホスファイト4を合成し、Rh(I)/4系触媒でナフロキセン合成へのヒドロホルミル化を試みた結果、反応は容易に完結するが不斉収率は14%eeに止まっている。
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