| 研究課題/領域番号 |
06452310
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| 研究種目 |
一般研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
金属物性
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
橋爪 弘雄 東京工業大学, 工業材料研究所, 教授 (10011123)
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| 研究分担者 |
坂田 修身 東京工業大学, 工業材料研究所, 助手 (40215629)
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| 研究期間 (年度) |
1994 – 1995
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| 研究課題ステータス |
完了 (1995年度)
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| 配分額 *注記 |
5,400千円 (直接経費: 5,400千円)
1995年度: 800千円 (直接経費: 800千円)
1994年度: 4,600千円 (直接経費: 4,600千円)
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| キーワード | 磁気多層膜 / 〓膜構造評価 / X線フレネル反射 / ラフネス / 薄膜構造評価 / 薄膜評価 |
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| 研究概要 |
実用的なX線反射率測定装置を製作し、種々の磁性多層膜から鏡面および非鏡面反射データを収集し、積層構造、表面・界面構造を決定した。反射率測定装置は回転陽極型X線発生装置、2軸ゴニオメータ、チャンネル・カット結晶を用いている。チャンネル・カット結晶はSi非対称111反射を用い、ふつうのものより約3倍広い角度幅でCuKα線を取込んで試料に供給する。アナライザーには、要求する分解能に応じてスリットとチャンネル・カット結晶を交換使用できる。シンチレーション検出器で測定されたX線計数率をソフト的に補正し、直線領域を500,000cpsまで伸ばしている。装置は日立UNIXワークステーションで制御され、θ、2θ、θ-2θなどの走査により2次元逆空間を種々の方向に切る一連の測定がスケジュール・プログラムにより連続して自動的に行える。本装置により鏡面フレネル反射プロフィルは数時間で測定できる。このデータを最小二乗フィットして多層膜の個々の相の厚さ、界面ラフネスを決定するプログラムを作成すると共に、歪み波ボルン近似を用いて非鏡面散漫散乱データを解析し、界面ラフネスの面内および界面間の相関距離、フラクタル次元を求めるソフトウエアを開発した。
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