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積層構造をもつ超小型偏光分離素子の開発研究

研究課題

研究課題/領域番号 06555011
研究種目

基盤研究(A)

配分区分補助金
応募区分試験
研究分野 応用光学・量子光工学
研究機関東北大学

研究代表者

川上 彰二郎  東北大学, 電気通信研究所, 教授 (10006223)

研究分担者 片岡 春樹  住友大阪セメント(株), 中央研究所, (参事)研究職
佐藤 尚  東北大学, 電気通信研究所, 助手 (30261572)
花泉 修  東北大学, 工学部, 助教授 (80183911)
白石 和男  宇都宮大学, 工学部, 助教授 (90134056)
研究期間 (年度) 1994 – 1996
研究課題ステータス 完了 (1996年度)
配分額 *注記
12,200千円 (直接経費: 12,200千円)
1996年度: 2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
1995年度: 1,800千円 (直接経費: 1,800千円)
1994年度: 8,400千円 (直接経費: 8,400千円)
キーワード光集積デバイス / 偏光分離素子 / 光アイソレータ / 光スイッチ / 多層膜 / RFスパッタリング / プラズマCVD / LPS / 偏波無依存アイソレータ / スパッタリング / プラズマ CVD
研究概要

積層形偏光分離素子(laminated polarization splitter:LPS)は、屈折率の異なる2種材料の多層膜からなる極めて小さな偏光分離素子であり、集積型光機能デバイスの重要な構成素子である。本研究では、光通信で用いられる波長1.55μm帯用および1.3μm帯用の高性能なLPS作製技術の検討をおこなった。波長1.55μm帯用では、rfスパッタリング法を用いて、厚さ200μm以上の多層膜を平坦で且つ安定に作製することができた。その結果、0.1dB/100μmの極めて低損失なLPSを達成した。波長1.3μm帯用では、プラズマCVD法におけるa-Si_<1-x>C_xとSiO_2からなる多層膜の作製条件を最適化することにより、LPSの損失を以前に比べて低減することができた。作製したLPSを平面導波路集積型光コネクトに応用し、動作確認をおこなった。また光ファイバ垂直集積デバイスとしてアイソレータアレイを試作し、本集積構造の有用性を実証した。

報告書

(4件)
  • 1996 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 1995 実績報告書
  • 1994 実績報告書
  • 研究成果

    (25件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (25件)

  • [文献書誌] Kazuo Shiraishi: "Integration of in-line optical isolators" IEEE Transaction on Magnetics. 32. 4108-4112 (1996)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Y.G.Lee: "Low loss laminated polarization splitters for the wavelength lower than 1.3μm prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition" Thin Solid Films. (1996)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 笠原 亮一: "ファイバアレイ集積化光アイソレータの高性能化" 電子情報通信学会論文誌. 80-C-I. 136-137 (1997)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Hiroki Takahashi: "structural relaxation and stress reduction in hydrogenated silicon oxide films" Journal Applied Physics. 79. 2787 (1996)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Hiroki Takahashi: "Ar/Hz sputtering deposition of 350μm-thick Si:H/SiO_x:H multilayers having flat-interfaces for optical applications" Thin Solid Films. 277. 132 (1996)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Hiroki Takahashi: "Mechanisms of reduction of the internal stress in hydrogenated silicon oxide films prepared by Ar/Hz sputtering" Thin Solid Films. 281-282. 348 (1996)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 川上彰二郎: "光ファイバとファイバ型デバイス" 培風館, 290 (1996)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Kazuo Shiraishi: "Integration of in-line optical isolators" IEEE Transactions on Magnetics. vol.32. 4108-4112 (1996)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Y.G.Lee: "Low loss laminated polarization splitters for the wavelength longer than 1.3 mu m prepared by plasma enhanced chemical vapor depostion" Thin Solid Films. (to be published).

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Hiroki Takahashi: "Structural relaxation and stress reduction in hydrogenated silicon oxide films" Journal of Applied Physics. vol.79. 2787 (1996)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Hiroki Takahashi: "Ar/H_2 sputtering deposition of 350um-thick Si : H/SiO_x : H multilayrs having flat-interfaces for optical applications" Thin solid Films. vol.277. 132 (1996)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Hiroki Takahashi: "Mechanisms of reduction of the internal stress in hydrogenated silicon oxide films prepared by Ar/H_2 sputtering" Thin Solid Films. vol.281-282. 348 (1996)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Kazuo Shiraishi: "Integration of in-line optical isolators" IEEE Transactions on Magnetics. 32. 4108-4112 (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] Y. G. Lee: "Low loss laminated polarization splitters for the wavelength longer than 1.3μm prepared by plasma enhanced chemical vapor deposition" Thin Solid Films. (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] 笠原亮一: "ファイバアレイ集積化光アイソレータの高性能化" 電子情報通信学会論文誌. 80-C-I. 136-137 (1997)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] Hiroki Takahashi: "Structural relaxation and stress reduction in hydrogenated silicon oxide films" Journal Applied Physics. 79. 2787- (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] Hiroki Takahashi: "Ar/H_2 sputtering deposition of 350μm-thick Si : H/SiO_x :H multilayers having flat-interfaces for optical applications" Thin Solid Films. 277. 132- (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] Hiroki Takahashi: "Mechanisms of reduction of the internal stress in hydrogenated silicon oxide films prepared by Ar/H_2 sputtering" Thin Solid Films. 281-282. 348- (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] 川上彰二郎: "光ファイバとファイバ型デバイス" 培風館, 290 (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] Kazuo Shiraishi: "Vertical integration technology for fiber-optic circuit" Optoelectronics-Devices and Technologies-. 10. 55-74 (1995)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] Osamu Hanaizumi: "a-SiC:H/SiO_2 laminated polarization splitter for the wavelength region longer than 1.3μm prepared by plasma-enhanced chemical vaper deposition" Optical Fiber Technology. 1. 359-362 (1995)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] 川上 彰二郎: "ヴァーティカル・フォトニクスと光スイッチ・光制御" 光学. 24. 318-323 (1995)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] 川上彰二郎: "ヴァーティカル・フォトニクス" 電子情報通信学会論文誌 C-1. J77-C-1. 334-339 (1994)

    • 関連する報告書
      1994 実績報告書
  • [文献書誌] Takashi Sato: "Scattering mechanism and reducing insertion loss in a laminated polarization splitter" Applied Optics. 33. 6925-6934 (1994)

    • 関連する報告書
      1994 実績報告書
  • [文献書誌] Kazuo Shiraishi: "Vertical integration technology for fiber-optic circuit" Optoelectronics-Devices and Technologies. 10. 55-74 (1995)

    • 関連する報告書
      1994 実績報告書

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公開日: 1994-04-01   更新日: 2016-04-21  

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