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二重SOI構造による高温度用加速度センサ

研究課題

研究課題/領域番号 06555102
研究種目

試験研究(B)

配分区分補助金
研究分野 電子デバイス・機器工学
研究機関豊橋技術科学大学

研究代表者

石田 誠  豊橋技術科学大学, 工学部, 助教授 (30126924)

研究分担者 桜井 止水城  豊田工機, メカトロニクス事業部, 事業部
松本 佳宜 (松本 佳宣)  豊橋技術科学大学, 工学部, 助手 (60252318)
研究期間 (年度) 1994 – 1995
研究課題ステータス 完了 (1995年度)
配分額 *注記
10,100千円 (直接経費: 10,100千円)
1995年度: 2,600千円 (直接経費: 2,600千円)
1994年度: 7,500千円 (直接経費: 7,500千円)
キーワード加速度センサ / 高温度用 / SOI構造 / Al_2O_3膜 / 有限要素法 / マイクロマシニング / 二重SOI構造
研究概要

本研究では、従来測定不可能であった200度以上の高温環境で加速度を測定するため、二重SOI構造とマイクロマシニング技術を用いて加速度センサを試作することを目的とする、そのため、はじめに加速度センサの基本構造となる二重SOI構造[Si/Al203/Si/Al203/Si構造]を製作するために現有のSi成長装置を超高真空対応に改良して成長条件を確立させた。また、シリコンをイオン注入する事によって従来エッチングが不可能であったAl203膜をエッチングする事に成功した。さらに、電子ビームをAl203膜上に照射することで、Al203膜上におけるシリコンの選択成長技術を確立した。これらにより、二重SOI構造を用いた加速度センサ製作のための基礎技術を確立した。
つづいて、有限要素法を用いた構造解析プログラム(ANSYS)、CADソフト等を用いて加速度センサの設計を行った。また、本経費で購入した陽極接合装置やシリコンエッチング装置等と現有の半導体製造装置を用いて、シリコン直接接合法によるSOI構造を用いたピエゾ抵抗型と容量型の加速度センサを設計、試作した。SOI構造ならびにRIEプロセスを併用することで高い精度および再現性を達成した。そして、300度以上の高温でのセンサ特性を測定するため、高温度用センサに必要なパッケージング法、センサ特性測定装置の開発、整備を行い、最大33Gの加速度を印加しつつ400度まで温度を上げることのできる加速度測定システムを製作した。これらの結果を踏まえ、加速度センサの出力特性ならびに高温での特性を測定した。その結果、常温から400度までの温度範囲で加速度センサとしての動作が確認できた。解析の結果、構造解析プログラムによる設計値と測定結果は非常に似た結果が得られ設計法の妥当性が確認できた。

報告書

(3件)
  • 1995 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 1994 実績報告書
  • 研究成果

    (59件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (59件)

  • [文献書誌] M.Ishida: "Difference of Si selective growth on Al2O3 and SiO2 substrates by electron beam irradiation method" Jpn.J.Appl.Phys.34. 4429-4432 (1995)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Shun-ichi Yanagiya: "Si epitaxial nanostructures on Al2O3 by selective epitaxial growth using electron beam irradiation method" Proc.of 3rd.Int.Symo.On New Phenomena in Mesoscopic structures in Hawai. 355-358 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M.Ishida: "Electron irradiation and selective Si epitaxial growth on Al_2O_3" Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B. 91. 654-658 (1994)

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  • [文献書誌] H.Wado: "Epitaxial growth of γ-Al2O3 layers on Si(111)using Al solid source and N2O gas source molecular beam epitaxy," Appl.Phys.Lett. 67. 2200-2202 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M.Ishida: "Double SOI Structures and Devoce Applications with Heteroepitaxial Al_2O_3 and Si" Jpn.J.Appl.Phys.34. 832-836 (1995)

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  • [文献書誌] T.Kimura: "Fabrication of Si/Al2O3/Si SOI structures grown by the UHV-CVD method," Jpn.J.Appl.Phys.35. 221-224 (1996)

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  • [文献書誌] 高尾 英邦: "SOI構造を用いた高温用3次元加速度ベクトルセンサ" 電子情報通信学会論文誌C-II. 78-C-II. 495-505 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Y.Matsumoto: "A capacitive accelerometer using SDB-SOI structure" Pro.of the 8th Int.Conf.on Solid-State Sensors and Actators. 550-553 (1995)

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  • [文献書誌] H.Takao: "Three dimensional vector accelerometer using SOI structure for high temperature" Pro.of the 8th Int.Conf.on Solid-State Sensors and Actators. 683-686 (1995)

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  • [文献書誌] K.Kwon: "A study of three dimensional ploy silicon type accelerometer using silicon direct bonding technology" Technical Digest of the 14th Sensor Symposium. (発表予定). (1996)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Takao: "Analysis and design considerations of three dimensional vector accelerompeter using SOI structure for wide temperature range" Sensor and Actuators A. (発表予定). (1996)

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  • [文献書誌] H.Takao: "Temperature dependenceof characteristics analysis of frequency response of a Three-axial piezoresistive accelerometer with a surrounding mass structure for high temperature" Technical Digest of the 14th Sensor Symposium 1996. (発表予定). (1996)

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  • [文献書誌] M.Ishida: "A new etching method for single crystal Al2O3 film on Si using Si ion implantation" Proc.Of the 8th Int.Conf.On Solid-State Sensor and Actators. 87-90 (1995)

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  • [文献書誌] H.Kim: "A novel etching method of single crystalline Al2O3 film on Si and sapphire using Si ion implantation" Proc.of Fall Meeting of MRS 95,Boston. A4.20. 55 (1995)

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  • [文献書誌] H.Wado: "Epitaxial of γ-Al2O3 growth insulator films on Si using N2O gas and Al solid source molecular beam epitaxy" Proc.of Fall Meeting of MRS 95,Boston. G1.8. 245 (1995)

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  • [文献書誌] K.Hayama: "Effect of oxygen radicals for epitaxial growth of Al_2O_3 on Si" Jpn.J.Appl.Phys.33 No.1. 496-499 (1994)

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  • [文献書誌] Y.T.Lee: "High temperature pressure sensor using double SOI structures with two Al2O3 films" Sensors and Actuators A. A43. 59-64 (1994)

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  • [文献書誌] Y.T.Lee: "Low off-axis sensitivity accelerometer using eight piezoresistors" Technical Digest of the 12th Sensor Symposium. 233-236 (1994)

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  • [文献書誌] M.Ishida, H.Tayanaka, S.Yanagiya and T.Nakamura: "Difference of Si selectice growth ob A1203 and Sio2 substrates by electron beam irradiation method" Jpn.J.Appl.Phys. 34. 4429-4432 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Shun-ichi Yanagiya, HY.Wado and M.Ishida: "Si epitaxial nanostructures on A1203 by selective epitaxial growth using electron beam irradiation method" Mesoscopic structures in Hawaii. 335-358 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Wado, T.Shimizu, and M.Ishida: "Epitaxial growth of gamma-Al203 layrs on Si(111) using Al solid source and N20 gas source molecular beam epitaxy" Appl.Phys.Lett.67. 2200-2202 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M.Ishida, Y.T.Lee, T.Higashino, H.D.Seo and T.Nakamunr: "Double SOI Structures and Devoce Applications with Heteroepitaxial Al203 and Si" Jpn.J.Appl.Phys.34. 832-836 (1995)

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  • [文献書誌] H.Wadao, T.Shimizu, M.Ishida and T.Nakamura: "The growth properties of SiGe Films on Si (100) using Si2H6 gas and Ge Solid Source Molecular Beam Epitaxy" J.Gryst.Growth. 147. 320-325 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Wado, T.Shimizu, S.Ogura, M.Ishida and T.Nakamura: "Selective Epitaxial Growth of Ge and SiGe using Si2H6 gas and Ge Solid Source Molecular Beam Epitaxy" J.Cryst.Growth. 190. 969-973 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Kimura A.Sengoku and M.Ishida: "Fabrication of Si/Al203/Si SOI structures grown by the UHV-CVD method" Jpn.J.Appl.Phys. 35. 221-224 (1996)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M.Ishida, H.Kim, T.Kimura and T.Nakamura: "A new etching method for single crystal Al203 film on using Si ion implantation" Proc. of the 8th Int.Conf. On Solid-State Si Sensor and Actators. 87-90 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Kim, M.Ishida and T.Nakamura: "A novel etching method of single crystalline Al203 film on Si and sapphire using Si ion Implantation" Proc.of Fall Meeting of MRS 95, Boston. A4.20. 55

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Wado, T.Shimizu, Y.C.Jung and M.Ishida: "Epitaxial of gamma-Al203 growth insulator films on Si using N20 gas and Al solid source molecular beam epitaxy" Proc. of Fall Meeting of MRS 95, Boston. G1.8. 245

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M.Ishida, T.Tomita, H.Tayanaka and T.Nakamura: "Electron irradiation and selective Si epitaxial growth on Al203." Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B. 91. 654-658 (1994)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Y.T.Lee, H.D.Seo, M.Ishida, S.Kawahito and T.Nakamura: "High temperature presure sens or using double SOI structures with two Al203 films" Sensors and Actuators A. A43. 59-64 (1994)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Y.T.Lee, H.Seo, Y.Matsumoto, M.Ishida and T.Nakamura: "Low off-axis sensitivity accelerometer using eight piezoresistors" Technical Digest of the 12th Sensor Symposium. 233-236 (1994)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Takao, Y.Matsumoto, H.Tanaka, H.Seo, M.Ishida and T.Nakamura: "Three dimensional vector acclerometer using SOI structure for high temperature use." The Trans. of IEICE. C-II,Vol.J78-C-II. 495-505 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Y.Matsumoto, M.Iwakiri, H.Tanaka, M.Ishida and T.Nakamura: "A capacitive accelerometer using SDB-SOI structure" Proc. of the 8th Int.Conf. on Solid-State Sensors and Actators. 550-553 (1995)

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Takao, Y.Matsumoto, H.Seo, M.Ishida and T.Nakamura: "Analysis and design considerations of three dimensional vector accelerometer using SOI structure for wide temperature range" Sensor and ActuatorsA 1996. (now publishing).

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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Kwon, Y.Matsumoto, H.Tanaka, M.Ishida and S.Park: "A study of three dimensional ploy silicon type accelerometer using silicon direct bonding technology" Technical Digest of the 14th Sensor Symposium 1996. (now publishing).

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Takao, Y.Matsumoto and M.Ishida: "Temperature dependence of characteristics analysis of frequency response of a Three-axial piezoresistive accelerometer with a surrounding mass structure for high temperature" Technical Digest of the 14th Sensor Symposium 1996. (now-publishing).

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
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      1995 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M.Ishida: "Difference of Si selective growth on Al2O3 and SiO2 substrates by electron beam irradiation method," Jpn. J. Appl. Phys.34. 4429-4432 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] Shun-ichi Yanagiya: "Si epitaxial nanostructures on Al2O3 by selective epitaxial growth using electron beam irradiation method" Proc. of 3rd. Int. Symo. On New Phenomena in Mesoscopic structures in Hawaii. 355-358 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] M.Ishida: "Electron irradiation and selective Si epitaxial growth on Al_2O_3." Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B. 91. 654-658 (1994)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] H.Wado: "Epitaxial growth of γ-Al2O3 layers on Si(111)using Al solid source and N2O gas source molecular beam epitaxy," Appl. Phys. Lett. 67. 2200-2202 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] M.Ishida: "Double SOI Structures and Devoce Applications with Heteroepitaxial Al_2O_3 and Si" Jpn. J. Appl. Phys.34. 832-836 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] T.Kimura: "Fabrication of Si/Al2O3/Si SOI structures grown by the UHV-CVD method," Jpn. J. Appl. Phys.35. 221-224 (1996)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] M.Ishida: "A new etching method of single crystal Al2O3 film on Si using Si ion implantation" Proc. Of the 8th Int. Conf. On Solid-State Sensor and Actators. 87-90 (1995)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] H.Kim: "A novel etching method of single crystalline Al2O3 film on Si and sapphire using Si ion implantation." Proc. of Fall Meeting of MRS 95, Boston. A4. 20. 55 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] H.Wado: "Epitaxial of γ-Al2O3 growth insulator films on Si using N2O gas and Al solid source molecular beam epitaxy" Proc. of Fall Meeting of MRS 95, Boston. G1. 8. 245 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] K.Hayama: "Effect of oxygen radicals for epitaxial growth of Al_2O_3 on Si" Jpn. J. Appl. Phys.33 No. 1. 496-499 (1994)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] Y.T.Lee: "High temperature pressure sensor using double SOI structures with two Al2O3 films" Sensors and Actuators A. A43. 59-64 (1994)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] Y.T.Lee: "Low off-axis sensitivity accelerometer using eight piezoresistors" Technical Digest of the 12th Sensor Symposium. 233-236 (1994)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] 高尾 英邦: "SOI構造を用いた高温用3次元加速度ベクトルセンサ" 電子情報通信学会論文誌C-II. J-78-C-II. 495-505 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] Y.Matsumoto: "A capacitive accelerometer using SDB-SOI structure" Pro. of the 8th Int. Conf. on Solid-State Sensors and Actators. 550-553 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] H.Takao: "Three dimensional vectro accelerometer using SOI structure for high temperature" Pro. of the 8th Int. Conf. on Solid-State Sensors and Actators. 683-686 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] K.Kwon: "A study of three dimensional ploy silicon type accelerometer using silicon direct bonding technology" Technical Digest of the 14th Sensor Symposium. (発表予定). (1996)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] H.Takao: "Analysis and design considerations of three dimensional vector accelerometer using SOI structure for wide temperature range" Sensor and Actuators A. (発表予定). (1996)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] Y.T.Lee: "High Temperature Pressure Sensor Using Doble SOI Structures" Sensors and Actuators A. A43. 59-64 (1994)

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      1994 実績報告書
  • [文献書誌] 高尾英邦: "SOI構造を用いた高温用3次元加速度ベクトルセンサ" 第12回「センサの基礎と応用」シンポジウム和文速報. L1. 73 (1994)

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      1994 実績報告書
  • [文献書誌] Y.T.Lee: "Low OH-Axis Sensitivity Accelerometer Using Eighc Piezoresistors" Technical Digest of the 12th Sensor Symposium. 233-236 (1994)

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      1994 実績報告書
  • [文献書誌] M.Ishida: "Double SOI Structures and Devoce Applications with Heteroepitaxial" Jpn.J.Appl.Phys.34. 832-836 (1995)

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      1994 実績報告書
  • [文献書誌] 高尾英邦: "SOI構造を用いた高温用3次元加速度ベクトルセンサ" Technical Digest of the 13th Sensor Symposium. (発表予定). (1995)

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      1994 実績報告書
  • [文献書誌] 松本佳宣: "SOI構造を用いた容量形加速度センサ" Technical Digest of the 13th Sensor Symposium. (発表予定). (1995)

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      1994 実績報告書

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公開日: 1994-04-01   更新日: 2016-04-21  

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