研究課題/領域番号 |
06640790
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
分離・精製・検出法
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研究機関 | 九州大学 |
研究代表者 |
吉村 和久 九州大学, 理学部, 教授 (80112291)
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研究分担者 |
宮崎 義信 福岡教育大学, 教育学部, 講師 (50253365)
武村 裕之 九州大学, 理学部, 助手 (60183456)
松岡 史郎 九州大学, 理学部, 助手 (10219404)
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研究期間 (年度) |
1994 – 1996
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研究課題ステータス |
完了 (1996年度)
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配分額 *注記 |
2,100千円 (直接経費: 2,100千円)
1996年度: 300千円 (直接経費: 300千円)
1995年度: 400千円 (直接経費: 400千円)
1994年度: 1,400千円 (直接経費: 1,400千円)
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キーワード | ホウ酸選択性高分子 / ポリオール / ホウ素-11 NMR / 錯生成 / 架橋デキストランゲル / デキストラン陰イオン交換体 / N-メチルグルカミン / 吸着 / ホウ素選択性高分子 / ホウ素-11NMR / セファデックス / 陰イオン交換デキストラン / デキストラン / ロファデックスゲル / 錯形成 |
研究概要 |
新規のホウ素選択性高分子の開発のために、ポリオールを含む高分子について、^<11>B NMRスペクトルとホウ酸の分配比の濃度および温度依存性の測定を行い、次のような成果が得られた。(1)デキストランゲルヘのホウ酸の吸着には濃度依存性がある。外部溶液のホウ酸イオン濃度が低いほど、また高架橋度のゲルほどより発熱的であった。(2)デキストランゲルヘのホウ酸の吸着性は錯生成よるものであり、^<11>B NMR測定により錯生成の定量的な取り扱いが可能である。_α-D-グルコピラノシル残基のコンホメーションが錯形成に大きく関与する。(3)架橋デキストランゲルの場合、架橋による_α-D-グルコピラノシル残基のコンホメーションの固定がホウ酸の吸着性を増加させることが示唆された。B(OH)_4^-はグルコピラノシル残基と反応して4種の結合異性体を生成するが、その安定度は、糖鎖の優勢なコンホメーションと密接に関連する。(4)イオン交換体セファデックスにおいても_α-D-グルコピラノシル残基との相互作用により3種の錯体が存在する。しかし、各錯体の交換体相での生成定数はセプァデックスの場合とほとんど違いはなく、生成した錯体とは反対電荷の固定基の存在はホウ酸の吸着性に大きな影響は与えなかった。(5)N-メチルグルカミン樹脂は、外部溶液の広いpH領域で樹脂内部のpHが外部溶液よりも高くかつほぼ一定であり、これが広いpH領域でのホウ酸の吸着性の原因である。デキストランゲルと同様に、吸着には官能基中のポリオールが関与する。 得られた結果を参考にして、ホウ素吸着性樹脂の合成を行った。クロロメチル化ポリスチレンを用い、tris(hydroxymethyl)基をエーテル結合により固定した。性能に関する研究は現在進行中である。基盤研究(B)に研究助成を申請中であるが、ホウ素同位体分離の可能性についても検討していく予定である。
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