| 研究概要 |
σ対称ジオールを不斉源として活用するため,σ対称ジオールの新規な不斉非対称化法の開発を目的として,α-スルフィニルアセタールの選択的β脱離反応について検討を行った.アセタール化の段階でジアステレオマ-を生じないC2対称なジスルホキシド(I)を設計し,これを用いたアセタールの選択的開裂反応を検討した.
1)1,2-ベンゼンチオールとジクロロアセトンから7員環ジスルフィドとし,MCPBAにより酸化し,ラセミのジスルホキシド(I)の合成を行った.なお,この際メソジスルホキシドも同時に生成した.
2)Iとメソ-1,3-ジオール(II)からアセタール(III)を合成し,開裂反応の最適条件を検討した結果(塩基の種類,溶媒効果,反応温度など),IIIaにおいてはリチウムジエチルアミド/DME/-78℃/30min.の条件では5:1の選択性で一方の開裂体が優先的に得られることが明らかとなった。
3)置換基Rがイソプロピル基であるIIIbにおいては,IIIaの場合と同条件下では2:1の選択性であり,Rの大きさが選択性発現に影響を与えることが判明した.
4)その他,種々のメソ-1,2-ジオールにおいても不斉非対称化を検討し,その結果,塩基としてリチウムジイソプロピルアミドを用いた場合に2:1〜4:1の選択性で一方の開裂体が優先的に得られることが明かとなった.
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